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1. (WO2008111463) 被膜形成用塗布液及びその製造方法並びに半導体装置の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/111463    国際出願番号:    PCT/JP2008/053971
国際公開日: 18.09.2008 国際出願日: 05.03.2008
IPC:
G03F 7/11 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 183/06 (2006.01), C09D 183/07 (2006.01), H01L 21/312 (2006.01)
出願人: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010054 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKAJIMA, Makoto [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAKAIDA, Yasushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IMAMURA, Hikaru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAKEI, Satoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAKAJIMA, Makoto; (JP).
SAKAIDA, Yasushi; (JP).
IMAMURA, Hikaru; (JP).
TAKEI, Satoshi; (JP)
代理人: HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010062 (JP)
優先権情報:
2007-058646 08.03.2007 JP
発明の名称: (EN) COATING SOLUTION FOR FILM FORMATION, METHOD FOR PRODUCTION OF THE COATING SOLUTION, AND METHOD FOR PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) SOLUTION DE REVÊTEMENT POUR LA FORMATION D'UN FILM, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE LA SOLUTION DE REVÊTEMENT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR
(JA) 被膜形成用塗布液及びその製造方法並びに半導体装置の製造方法
要約: front page image
(EN)[PROBLEMS] To improve storage stability of a siloxane polymer-containing coating solution for film formation which has high curability but is poor in storage stability at room temperature. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] Disclosed is a coating solution for film formation, which comprises a polymer having an Si-O-Si bond and a silanol group, an organic solvent represented by the formula: R1(OCH2CHCH3)nOCOCH3 [wherein R1 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; and n represents a number of 1 or 2], an organic solvent which can dissolve therein a cis-type bivalent carboxylic acid (dicarboxylic acid), and a cis-type bivalent carboxylic acid (dicarboxylic acid).
(FR)L'invention vise à améliorer la stabilité au stockage d'une solution de revêtement contenant un siloxane polymère pour la formation d'un film, laquelle solution a une aptitude au durcissement élevée mais a une stabilité au stockage médiocre à la température ambiante. A cet effet, l'invention concerne une solution de revêtement pour la formation d'un film, qui comprend un polymère ayant une liaison Si-O-Si et un groupe silanol, un solvant organique représenté par la formule : R1(OCH2CHCH3)nOCOCH3 [dans laquelle R1 représente un groupe alkyle ayant 1 à 4 atomes de carbone ; et n représente un nombre de 1 ou 2], un solvant organique qui peut dissoudre dans celui-ci un acide carboxylique bivalent de type cis (acide dicarboxylique), et un acide carboxylique bivalent de type cis (acide dicarboxylique).
(JA)【課題】  硬化性が高い一方、室温での保存安定性の悪いシロキサンポリマーを含む被膜形成用塗布液について、保存安定性を向上させる。 【解決手段】  Si-O-Si結合を有すると共にシラノール基を有する重合体と、式R1(OCH2CHCH3nOCOCH3(式中、R1は炭素原子数1乃至4のアルキル基を示し、nは1又は2を示す。)で表される有機溶媒と、シス型の二価カルボン酸(ジカルボン酸)を溶解可能な有機溶媒と、シス型の二価カルボン酸(ジカルボン酸)とを含む被膜形成用塗布液を用いる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)