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1. (WO2008111393) 中空シリコーン系微粒子と有機高分子とからなる樹脂組成物および層間絶縁膜
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/111393    国際出願番号:    PCT/JP2008/053362
国際公開日: 18.09.2008 国際出願日: 27.02.2008
IPC:
C08L 101/00 (2006.01), C08K 7/22 (2006.01), C08L 27/12 (2006.01), C08L 79/08 (2006.01), H01L 21/312 (2006.01), H01L 21/768 (2006.01), H01L 23/522 (2006.01)
出願人: KANEKA CORPORATION [JP/JP]; 2-4, Nakanoshima 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308288 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TAKAKI, Akira [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUJIHARA, kan [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MURATA, shoichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TAKAKI, Akira; (JP).
FUJIHARA, kan; (JP).
MURATA, shoichi; (JP)
共通の
代表者:
KANEKA CORPORATION; 2-4, Nakanoshima 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308288 (JP)
優先権情報:
2007-063658 13.03.2007 JP
2007-225393 31.08.2007 JP
発明の名称: (EN) RESIN COMPOSITION COMPRISING EMPTY SILICONE FINE PARTICLES AND ORGANIC POLYMER, AND INTERLAYER INSULATING FILM
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE COMPRENANT DES PARTICULES FINES DE SILICONE VIDES ET UN POLYMÈRE ORGANIQUE, ET FILM ISOLANT INTERMÉDIAIRE
(JA) 中空シリコーン系微粒子と有機高分子とからなる樹脂組成物および層間絶縁膜
要約: front page image
(EN)This invention provides an organic polymer-type interlayer insulating film having a low level of permittivity. The resin composition comprises empty silicone fine particles, which have an outer shell formed of a silicone compound and have a volume average particle diameter of 0.001 to 1 &mgr;m, and an organic polymer. Preferably, the silicone compound comprises one or at least two units selected from the group consisting of SiO4/2 units, RSiO3/2 units, wherein R represents at least one group selected from alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, aromatic groups having 6 to 24 carbon atoms, a vinyl group, and &ggr;-(meth)acryloxypropyl or SH group-containing organic groups, and R2SiO2/2 units, wherein R is as defined above, the content of the R2SiO2/2 unit and the content of the RSiO3/2 unit being not more than 20% by mole and not less than 50% by mole, respectively. The organic polymer is preferably a polyimide resin or a fluororesin.
(FR)La présente invention concerne un film isolant intermédiaire de type polymère organique ayant un faible niveau de permittivité. La composition de résine comprend des particules fines de silicone vides, qui ont une coque externe formée d'un composé siliconé et ont un diamètre particulaire moyen en volume de 0,001 à 1 µm, et un polymère organique. De préférence, le composé siliconé comprend une ou au moins deux unités choisies dans le groupe comprenant des unités SiO4/2, des unités RSiO3/2, R représentant au moins un groupe choisi parmi des groupes alkyles ayant de 1 à 4 atomes de carbone, des groupes aromatiques ayant de 6 à 24 atomes de carbone, un groupe vinyle, et des groupes organiques contenant un groupe &ggr;-(méth)acryloxypropyle ou SH, et des unités R2SiO2/2, R étant tel que défini ci-dessus, la teneur en unités R2SiO2/2 et la teneur en unités RSiO3/2 étant inférieure ou égale à 20 % en moles et supérieure ou égale à 50 % en moles, respectivement. Le polymère organique est de préférence une résine polyimide ou une fluororésine.
(JA)低い誘電率をもつ有機高分子系の層間絶縁膜を提供する。シリコーン系化合物からなる外殻を有する体積平均粒子径0.001~1μmの中空シリコーン系微粒子と有機高分子とを含有する樹脂組成物である。前記シリコーン系化合物は、SiO4/2単位、RSiO3/2単位(式中、Rは、炭素数1乃至4のアルキル基、炭素数6乃至24の芳香族基、ビニル基、γ-(メタ)アクリロキシプロピル基又はSH基をもつ有機基の少なくとも1種を示す)およびR2SiO2/2単位(式中、Rは前記に同じ)からなる群より選ばれる1単位又は2単位以上からなり、R2SiO2/2単位の割合が20モル%以下、RSiO3/2単位の割合が50モル%以上であることが好ましい。前記有機高分子は、ポリイミド系樹脂またはフッ素系樹脂であることが好ましい。                                                                       
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)