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1. (WO2008111389) エッチング液及びエッチング方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/111389    国際出願番号:    PCT/JP2008/053267
国際公開日: 18.09.2008 国際出願日: 26.02.2008
IPC:
C23F 1/30 (2006.01), H01L 21/308 (2006.01), H01L 21/3213 (2006.01)
出願人: Mitsubishi Chemical Corporation [JP/JP]; 14-1, Shiba 4-chome, Minato-ku, Tokyo 1080014 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ISHIKAWA, Makoto [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAITOU, Noriyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
AOKI, Masumi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ISHIKAWA, Makoto; (JP).
SAITOU, Noriyuki; (JP).
AOKI, Masumi; (JP)
代理人: SHIGENO, Tsuyoshi; Nissin bldg., 9F 5-10, Shinjuku 2-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
優先権情報:
2007-062066 12.03.2007 JP
2007-242532 19.09.2007 JP
発明の名称: (EN) ETCHING SOLUTION AND ETCHING METHOD
(FR) SOLUTION DE GRAVURE ET PROCÉDÉ DE GRAVURE
(JA) エッチング液及びエッチング方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is an etching solution which has excellent wettability on a hydrophobic bare silicon and enables the efficient etching of gold or palladium at a narrow gap. Specifically disclosed is an aqueous etching solution for use in the treatment of gold or palladium, which contains iodine, a salt of an iodide, water and a glycol ether compound. The glycol ether compound is preferably represented by the general formula (1). R1-O-(R2-O-)n-H (1) wherein R1 represents an alkyl group having 4 to 20 carbon atoms; R2 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms; and n represents an integer of 2 to 40.
(FR)L'invention concerne une solution d'attaque qui a une excellente aptitude au mouillage sur un silicium nu hydrophobe et permet la gravure efficace d'or ou de palladium à un espace étroit. De façon spécifique, l'invention concerne une solution aqueuse de gravure pour une utilisation dans le traitement d'or ou de palladium, qui contient de l'iode, un sel d'un iodure, de l'eau et un composé d'éther de glycol. Le composé d'éther de glycol est, de préférence, représenté par la formule générale (1). R1-O-(R2-O-)n-H (1) R1 représentant un groupe alkyle ayant 4 à 20 atomes de carbone ; R2 représentant un groupe alkylène ayant 2 à 4 atomes de carbone ; et n représentant un entier de 2 à 40.
(JA) 疎水性のベアシリコンに対する濡れ性に優れ、狭間隙における金又はパラジウムをも効率的にエッチングすることができるエッチング液を提供する。金又はパラジウムを処理するエッチング液において、ヨウ素、ヨウ化物塩、水及びグリコールエーテル系化合物を含む水溶性エッチング液。このグリコールエーテル系化合物としては、下記一般式(1)で表されるものが好ましい。  R-O-(R-O-)-H  …(1)  (1)式中、Rは炭素数4~20のアルキル基を表し、Rは炭素数2~4のアルキレン基を表し、nは2~40の整数を表す。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)