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1. (WO2008111198) フォトマスク
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/111198    国際出願番号:    PCT/JP2007/055129
国際公開日: 18.09.2008 国際出願日: 14.03.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01)
出願人: FUJITSU MICROELECTRONICS LIMITED [JP/JP]; 7-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630722 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OIKAWA, Shiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OIKAWA, Shiro; (JP)
代理人: OKAMOTO, Keizo; OKAMOTO PATENT OFFICE Yamanishi Bldg, 4F, 11-7 Nihonbashi Ningyo-cho 3-chome Chuo-ku, Tokyo 1030013 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) PHOTOMASK
(FR) MASQUE PHOTOGRAPHIQUE
(JA) フォトマスク
要約: front page image
(EN)[PROBLEMS] To provide a photomask able to more positively avoid a damage to a pattern by static electricity or the like than the prior art. [MEANS OF SOLVING PROBLEMS] Projections (25) projecting from the edge of a ring-form pattern provided to a photomask toward the center in the width direction of the pattern are provided to the pattern. The ring-form pattern is, for example, a pattern for forming a humidity resisting ring. The gap S between projections (25) is set to 10 μm, for example, to facilitate discharging. When static electricity is accumulated in the photomask due to some reasons, discharging occurs between the projections (25) to prevent a damage to the pattern.
(FR)L'objet de l'invention est un masque photographique permettant de protéger, mieux que dans l'art antérieur, un motif contre les dégâts provoqués par l'électricité statique ou autre. Ce masque photographique prend la forme d'un motif circulaire, avec des projections (25) qui partent du bord de ce motif vers le centre dans le sens de la largeur. Ce motif circulaire sert, par exemple, à former un anneau résistant à l'humidité. L'intervalle S entre les projections (25) est fixé par exemple sur 10 μm pour faciliter la décharge. Lorsque l'électricité statique s'est accumulée dans le masque photographique pour une raison ou pour une autre, une décharge se produit entre les projections (25) afin que le motif ne soit pas endommagé.
(JA)【課題】従来に比べて静電気等によるパターンの破損をより確実に回避できるフォトマスクを提供する。 【解決手段】フォトマスクに設けられたリング状のパターンに、その縁部から当該パターンの幅方向の中心に向けて突出する突起25が設けられている。リング状のパターンとしては、例えば耐湿リングを形成するためのパターンがある。突起25間の間隔Sは放電が発生しやすいように、例えば10μmに設定される。何らかの原因によりフォトマスクに静電気が蓄積された場合、突起25間で放電が発生し、パターンの破損を防止する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)