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1. (WO2008105520) 研磨組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/105520    国際出願番号:    PCT/JP2008/053579
国際公開日: 04.09.2008 国際出願日: 28.02.2008
IPC:
C09K 3/14 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: Nitta Haas Incorporated [JP/JP]; 4-4-26, Sakuragawa, Naniwa-ku, Osaka-shi, Osaka 5560022 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MATSUMURA, Yoshiyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NITTA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MATSUMURA, Yoshiyuki; (JP).
NITTA, Hiroshi; (JP)
代理人: SAIKYO, Keiichiro; Shikishima Building 2-6, Bingomachi 3-chome, Chuo-ku Osaka-shi, Osaka 5410051 (JP)
優先権情報:
2007-050340 28.02.2007 JP
発明の名称: (EN) POLISHING COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE POLISSAGE
(JA) 研磨組成物
要約: front page image
(EN)Disclosed is a polishing composition containing ammonium hydroxide, an ammonium salt and an organic acid, which enables polishing at a higher speed than the conventional compositions. The polishing composition realizes polishing at a still higher speed by additionally containing an oxidizing agent. When the polishing composition further contains an anticorrosive agent, dishing is suppressed. In this polishing agent, an amino acid is preferable as the organic acid, hydrogen peroxide is preferable as the oxidizing agent, and a tetrazole derivative is preferable as the anticorrosive agent. Consequently, there is provided a polishing composition which enables high-speed polishing while suppressing dishing.
(FR)L'invention porte sur une composition de polissage contenant de l'hydroxyde d'ammonium, un sel d'ammonium et un acide organique et permettant d'effectuer un polissage plus rapidement que les compositions classiques. La composition de polissage effectue un polissage à une vitesse encore supérieure lorsqu'elle contient également un agent oxydant. Lorsque la composition de polissage contient aussi un agent anticorrosif, le défaut de géométrie se traduisant par un creux appelé « dishing » est supprimé. Dans ledit agent de polissage, un acide aminé est préféré comme acide organique, le peroxyde d'hydrogène est préféré comme agent oxydant, et un dérivé de tétrazole est préféré comme agent anticorrosif. En conséquence, il est proposé une composition de polissage qui permet un polissage rapide tout en supprimant le phénomène de « dishing ».
(JA) 本発明の研磨組成物は、水酸化アンモニウム、アンモニウム塩および有機酸を含むことで、従来より高速研磨が可能な研磨組成物を実現できる。さらに酸化剤を含むことで、より高速研磨が可能な研磨組成物を実現でき、これに防食剤を含むことで、ディッシングを抑制することができる。本発明の研磨組成物において、有機酸としては、アミノ酸が好ましく、酸化剤としては、過酸化水素が好ましく、防食剤としては、テトラゾール誘導体が好ましい。これにより、さらにディッシングを抑制し、高速研磨が可能な研磨組成物を実現できる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)