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1. (WO2008105440) フォトレジスト剥離剤組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/105440    国際出願番号:    PCT/JP2008/053360
国際公開日: 04.09.2008 国際出願日: 27.02.2008
IPC:
G03F 7/42 (2006.01)
出願人: NAGASE CHEMTEX CORPORATION [JP/JP]; 1-17, Shinmachi 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5508668 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAMABE, Takafumi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NISHIJIMA, Yoshitaka [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAMABE, Takafumi; (JP).
NISHIJIMA, Yoshitaka; (JP)
代理人: FURUTANI, Shinya; FURUTANI NAIGAI TOKKYO JIMUSHO 1-27, Dojima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300003 (JP)
優先権情報:
2007-049523 28.02.2007 JP
発明の名称: (EN) PHOTORESIST REMOVER COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DÉCAPANTE
(JA) フォトレジスト剥離剤組成物
要約: front page image
(EN)Disclosed is a photoresist remover composition which enables to remove a photoresist without corroding Cu or Cu alloy wiring formed on a substrate during a wiring board manufacturing process for FPD. The composition contains 0.05-10% by weight of at least one heterocyclic compound selected from the group consisting of maltol, 2,6-dimethylgammapyrone, 4-hydroxy-6-methyl-2- pyrone, 4-hydroxycoumarin, 2,4-dihydroxyquinoline, 2-amino- 4,6-dihydroxypyrimidine, 2,4-diamino-6-hydroxypyrimidine, 2-amino-4-hydroxy-6-methylpyrimidine, 4,6-dimethyl-2- hydroxypyrimidine, uracil and 6-methyluracil, 5-45% by weight of a primary or secondary alkanol amine, and 50-94.95% by weight of a polar organic solvent and/or water.
(FR)L'invention concerne un décapant qui permet d'éliminer une photorésine sans corroder un câblage en Cu ou alliage de Cu formé sur un substrat pendant un processus de fabrication de panneau de câblage pour FPD. La composition contient 0,05-10 % en poids d'au moins un composé hétérocyclique choisi dans le groupe comprenant maltol, 2,6-diméthylgammapyrone, 4-hydroxy-6-méthyl-2-pyrone, 4-hydroxycoumarin, 2,4-dihydroxyquinoline, 2-amino-4,6-dihydroxypyrimidine, 2,4-diamino-6-hydroxypyrimidine, 2-amino-4-hydroxy-6-méthylpyrimidine, 4,6-diméthyl-2- hydroxypyrimidine, uracile et 6-méthyluracil, 5-45 % en poids d'un alcanolamine primaire ou secondaire et 50-94,95 % en poids d'un solvant organique polaire et/ou d'eau.
(JA) FPDのための配線基板製造工程において、基板上に形成されたCu又はCu合金配線を腐食させることなくフォトレジストを剥離する事ができるフォトレジスト剥離剤組成物。該組成物は、マルトール、2,6-ジメチルガンマピロン、4-ヒドロキシ-6-メチル-2-ピロン、4-ヒドロキシクマリン、2,4-ジヒドロキシキノリン、2-アミノ-4,6-ジヒドロキシピリミジン、2,4-ジアミノ-6-ヒドロキシピリミジン、2-アミノ-4-ヒドロキシ-6-メチルピリミジン、4,6-ジメチル-2-ヒドロキシピリミジン、ウラシル及び6-メチルウラシルからなる群から選択される少なくとも1種の複素環式化合物を0.05~10重量%、一級又は二級のアルカノールアミンを5~45重量%、並びに、極性有機溶剤及び/又は水を50~94.95重量%含有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)