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1. (WO2008105129) 感光性樹脂組成物、感光性転写材料、離画壁及びその形成方法、離画壁付き基板、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/105129    国際出願番号:    PCT/JP2007/074304
国際公開日: 04.09.2008 国際出願日: 18.12.2007
IPC:
C08F 220/22 (2006.01), G02B 5/20 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01)
出願人: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ARIOKA, Daisuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KASHIWAGI, Daisuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ARIOKA, Daisuke; (JP).
KASHIWAGI, Daisuke; (JP)
代理人: NAKAJIMA, Jun; TAIYO, NAKAJIMA & KATO Seventh Floor, HK-Shinjuku Bldg. 3-17, Shinjuku 4-chome Shinjuku-ku Tokyo 1600022 (JP)
優先権情報:
2007-047393 27.02.2007 JP
2007-092892 30.03.2007 JP
2007-093706 30.03.2007 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL, PIXEL BARRIER AND METHOD FOR FORMING THE SAME, SUBSTRATE WITH PIXEL BARRIER, COLOR FILTER AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, MATÉRIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE, BARRIÈRE ENTRE PIXELS ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE CELLE-CI, SUBSTRAT À BARRIÈRE ENTRE PIXELS, FILTRE COLORÉ ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 感光性樹脂組成物、感光性転写材料、離画壁及びその形成方法、離画壁付き基板、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is a photosensitive resin composition which is suppressed in emission of a fluorine-containing compound component during a heat treatment. Also disclosed are a photosensitive transfer material, a pixel barrier using the photosensitive resin composition or the photosensitive transfer material, a method for forming such a pixel barrier, a substrate with pixel barrier, a color filter, a method for producing a color filter, and a display device. The photosensitive resin composition contains an initiator, an ethylenically unsaturated compound and a fluorine-containing compound. In this composition, the heat reduction rate of the fluorine-containing compound when it is kept at 150˚C for 30 minutes is not more than 30% by mass.
(FR)L'invention porte sur une composition de résine photosensible dont l'émission d'un composant à base d'un composé contenant du fluor est supprimée pendant un traitement thermique. L'invention porte également sur un matériau de transfert photosensible, sur une barrière entre pixels utilisant la composition de résine photosensible ou le matériau de transfert photosensible, sur un procédé de formation d'une telle barrière entre pixels, sur un substrat à barrière entre pixels, sur un filtre coloré, sur un procédé de fabrication d'un filtre coloré, et sur un dispositif d'affichage. La composition de résine photosensible contient un initiateur, un composé à insaturation éthylénique et un composé contenant du fluor. Lorsque ladite composition est maintenue à 150°C pendant 30 minutes, le taux de réduction de chaleur du composé contenant du fluor est égal ou inférieur à 30 % en masse.
(JA) 熱処理した際の含フッ素化合物成分の放出が抑えられた感光性樹脂組成物及び感光性転写材料、上記感光性樹脂組成物又は上記感光性転写材料を用いた離画壁及びその形成方法、離画壁付き基板、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置を提供する。上記感光性樹脂組成物は、開始剤、エチレン性不飽和化合物、及び含フッ素化合物を含み、150°Cで30分間保持した際の前記含フッ素化合物の熱減少率を30質量%以下とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)