WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2008099771) 積層セラミックコンデンサ
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/099771    国際出願番号:    PCT/JP2008/052104
国際公開日: 21.08.2008 国際出願日: 08.02.2008
IPC:
H01G 4/12 (2006.01), H01G 4/30 (2006.01)
出願人: MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAGAMOTO, Toshiki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KUSANO, Mitsuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAGAMOTO, Toshiki; (JP).
KUSANO, Mitsuhiro; (JP)
代理人: KOSHIBA, Masaaki; Koshiba Patent Office Nisshin Building, 14-22 Shitennoji 1-chome, Tennoji-ku Osaka-shi, Osaka 5430051 (JP)
優先権情報:
2007-033152 14.02.2007 JP
発明の名称: (EN) LAMINATED CERAMIC CAPACITOR
(FR) CONDENSATEUR CÉRAMIQUE STRATIFIÉ
(JA) 積層セラミックコンデンサ
要約: front page image
(EN)External electrodes (6, 7) of a laminated ceramic capacitor (1) are formed to have the external electrodes (6, 7) function also as resistive elements. After forming a lower layer ohmic electrode (8) by firing, an upper layer conductive electrode (9) is formed on the lower layer ohmic electrode by firing at a lower temperature. There are some cases where firing of the upper layer conductive electrode (9) is not sufficiently performed, entry of plating liquid is induced in a step of performing electrolytic plating on the upper layer conductive electrode (9), and solder burst is generated in the subsequent soldering step. As a glass contained in the upper layer conductive electrode (9), a material having a softening point at least 20°C lower than that of a glass contained in the lower layer ohmic electrode (8) is used to solve such problem.
(FR)L'invention concerne un condensateur céramique stratifié (1) dont électrodes externes (6, 7) sont formées pour avoir les électrodes externes (6, 7) qui fonctionnent également en tant qu'éléments résistifs. Après la création d'une électrode ohmique de couche inférieure (8) par cuisson, une électrode conductrice de couche supérieure (9) est formée sur l'électrode ohmique de couche inférieure par cuisson à une température inférieure. Il existe certains cas où la cuisson de l'électrode conductrice de couche supérieure (9) n'est pas suffisamment effectuée, l'entrée de liquide de plaquage est induite dans une étape d'exécution de plaquage électrolytique sur l'électrode conductrice de couche supérieure (9), et la brûlure par brasure est générée dans l'étape de brasure ultérieure. En tant que verre contenu dans l'électrode conductrice de couche supérieure (9), un matériau ayant un point de ramollissement inférieur d'au moins 20°C à celui d'un verre contenu dans l'électrode ohmique de couche inférieure (8) est utilisé pour résoudre un tel problème.
(JA) 積層セラミックコンデンサ(1)の外部電極(6,7)に抵抗素子としての機能をも与えるようにするため、外部電極(6,7)を形成するに当たって、下層抵抗電極(8)を焼成により形成した後、その上に上層導電電極(9)をより低い温度で焼成することにより形成したとき、上層導電電極(9)の焼結が十分に進まず、上層導電電極(9)上に電解めっきを施す工程において、めっき液の浸入を招き、その後のはんだ付け工程において、はんだ爆ぜが生じることがある。  この課題を解決するため、上層導電電極(9)に含まれるガラスとして、下層抵抗電極(8)に含まれるガラスより20°C以上低い軟化点を有するものを用いる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)