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1. (WO2008099621) レジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜

Pub. No.:    WO/2008/099621    International Application No.:    PCT/JP2008/050077
Publication Date: Fri Aug 22 01:59:59 CEST 2008 International Filing Date: Wed Jan 09 00:59:59 CET 2008
IPC: G03F 7/11
G03F 7/075
H01L 21/027
Applicants: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
東京応化工業株式会社
YAMASHITA, Naoki
山下 直紀
KAWANA, Daisuke
川名 大助
HARADA, Hisanobu
原田 尚宣
Inventors: YAMASHITA, Naoki
山下 直紀
KAWANA, Daisuke
川名 大助
HARADA, Hisanobu
原田 尚宣
Title: レジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜
Abstract:
 反射防止膜としての機能を有するとともに、レジスト層との密着性が良好なレジスト下層膜を形成できるレジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いて形成されたレジスト下層膜を提供する。  特定の繰り返し単位を有するシロキサンポリマーAとシロキサンポリマーBとを含有するレジスト下層膜形成用組成物によれば、反射防止膜としての機能を有するとともに、レジスト層との密着性が良好なレジスト下層膜を形成できる。