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1. (WO2008096752) エッチング方法および記憶媒体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/096752    国際出願番号:    PCT/JP2008/051862
国際公開日: 14.08.2008 国際出願日: 05.02.2008
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/768 (2006.01), H01L 23/522 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NOZAWA, Toshihisa [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MIYATANI, Kotaro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HORI, Toshiyasu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIROSE, Shigekazu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NOZAWA, Toshihisa; (JP).
MIYATANI, Kotaro; (JP).
HORI, Toshiyasu; (JP).
HIROSE, Shigekazu; (JP)
代理人: ITOH, Hidehiko; IMY INTERNATIONAL PATENT OFFICE, Oriental Sakaisuji Bldg., 21-19, Shimanouchi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5420082 (JP)
優先権情報:
2007-031162 09.02.2007 JP
2007-123820 08.05.2007 JP
発明の名称: (EN) ETCHING METHOD AND RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE GRAVURE ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT
(JA) エッチング方法および記憶媒体
要約: front page image
(EN)Provided is an etching method wherein a fluorine-added carbon film formed on a substrate is etched by plasma. The method includes a first step of performing etching with plasma of an oxygen-containing treatment gas, and a second step of performing etching with plasma of a fluorine-containing treatment gas.
(FR)L'invention concerne un procédé de gravure dans lequel un film de carbone au fluor formé sur un substrat est gravé par plasma. Le procédé comprend une première étape de réalisation d'une gravure par plasma d'un gaz de traitement contenant de l'oxygène, et une seconde étape de réalisation d'une gravure par plasma d'un gaz de traitement contenant du fluor.
(JA) 基板上に形成されたフッ素添加カーボン膜をプラズマによりエッチングするエッチング方法は、酸素を含む処理ガスのプラズマによりエッチングを行う第1段階と、フッ素を含む処理ガスのプラズマによりエッチングを行う第2段階とを有する。  
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)