国際・国内特許データベース検索

1. (WO2008096733) 光増幅器及びその製造方法

Pub. No.:    WO/2008/096733    International Application No.:    PCT/JP2008/051828
Publication Date: Fri Aug 15 01:59:59 CEST 2008 International Filing Date: Wed Feb 06 00:59:59 CET 2008
IPC: H01S 3/10
H01S 3/06
Applicants: EpiPhotonics Inc.
エピフォトニクス株式会社
NASHIMOTO, Keiichi
梨本 恵一
SUGAHARA, Yoshiyuki
菅原 義之
Inventors: NASHIMOTO, Keiichi
梨本 恵一
SUGAHARA, Yoshiyuki
菅原 義之
Title: 光増幅器及びその製造方法
Abstract:
 希土類元素を添加したPLZT光導波路層を有する光増幅器であって、小型で高効率な光増幅器及びその製造方法を提供すること。  Pb1-xLax(ZryTi1-y)1-x/4O3(PLZT:0<x<0.3、0<y<1.0)を含んで構成される光導波路層であって、Yb(イットリビウム)がドープ量0.2モル%以上、11.0モル%以下でドープされ、且つエピタキシャル成長によって形成される単結晶膜からなる光導波路層を有することを特徴とする光増幅器である。