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World Intellectual Property Organization
1. (WO2008093675) 積層電極

国際公開番号: WO/2008/093675 国際出願番号: PCT/JP2008/051310
国際公開日: 07.08.2008 国際出願日: 29.01.2008
H01M 14/00 (2006.01) ,C25B 11/04 (2006.01) ,H01L 31/04 (2006.01) ,H01M 4/86 (2006.01) ,H01M 4/92 (2006.01)
出願人: KANEKO, Shoji[JP/JP]; JP (UsOnly)
MURAKAMI, Kenji[JP/JP]; JP (UsOnly)
BOATENG, Onwona-Agyeman[GH/JP]; JP (UsOnly)
KAWASAKI, Shunji[JP/JP]; JP (UsOnly)
HAMAMATSU FOUNDATION FOR SCIENCE AND TECHNOLOGY PROMOTION[JP/JP]; c/o Hamamatsu Campus, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu-shi, Shizuoka 4328011, JP (AllExceptUS)
SPD LABORATORY, INC.[JP/JP]; 3-1-7, Wajiyama, Naka-ku, Hamamatsu-shi, Shizuoka 4328003, JP (AllExceptUS)
発明者: KANEKO, Shoji; JP
BOATENG, Onwona-Agyeman; JP
代理人: ASAHINA, Sohta; NS Building, 2-22 Tanimachi 2-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5400012, JP
(JA) 積層電極
要約: front page image
(EN) Disclosed is a low-cost multilayer electrode having high corrosion resistance, low resistivity and catalytic characteristics, which is used as an electrode member for dye-sensitized solar cells, fuel cells, electrolysis of electrolyte solutions and the like. Specifically disclosed is a multilayer electrode having a metal thin film formed on a substrate and composed of at least one metal selected from the group consisting of chromium and titanium, and a platinum thin film formed on the metal thin film. This multilayer electrode is characterized in that the metal thin film has a thickness of 300 nm to 1 μm and the platinum thin film has a thickness of 10 nm to 50 nm.
(FR) L'invention concerne une électrode multicouche à bas coût ayant une résistance à la corrosion élevée, une résistivité faible et des caractéristiques catalytiques, qui est utilisée en tant qu'élément d'électrode pour des cellules solaires sensibilisées par un colorant, des piles à combustible, une électrolyse de solutions électrolytiques et similaires. L'invention concerne spécifiquement une électrode multicouche ayant un film mince métallique formé sur un substrat et composé d'au moins un métal choisi dans le groupe constitué par le chrome et le titane, et un film mince de platine formé sur le film mince métallique. L'électrode multicouche est caractérisée par le fait que le film mince métallique a une épaisseur de 300 nm à 1 µm et le film mince de platine a une épaisseur de 10 nm à 50 nm.
(JA)  電極材料、色素増感太陽電池、燃料電池および電解質溶液の電気分解などの際に用いられる電極として、高耐食性、低抵抗率および触媒特性を有し、安価な積層電極を提供する。基板上に形成されたクロムおよびチタンからなる群より選ばれた少なくとも1種の金属からなる金属薄膜、および該金属薄膜上に形成された白金薄膜を有する積層電極であって、金属薄膜の厚さは300nm~1μmであり、白金薄膜の厚さは10nm~50nmであることを特徴とする積層電極。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)