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1. (WO2008093511) 光学素子の成形装置及び光学素子の成形方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2008/093511 国際出願番号: PCT/JP2008/050060
国際公開日: 07.08.2008 国際出願日: 08.01.2008
IPC:
B29C 45/26 (2006.01) ,B29C 45/02 (2006.01) ,B29C 45/53 (2006.01) ,B29C 45/58 (2006.01) ,B29K 101/10 (2006.01) ,B29L 11/00 (2006.01)
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
45
射出成形,即ち所要量の成形材料をノズルを介して閉鎖型内へ流入させるもの;そのための装置
17
構成部品,細部または付属装置;補助操作
26
金型
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
45
射出成形,即ち所要量の成形材料をノズルを介して閉鎖型内へ流入させるもの;そのための装置
02
トランスファー成形,即ち所要量の成形材料をプランジャによってショットキャビティから型キャビティへ移送するもの
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
45
射出成形,即ち所要量の成形材料をノズルを介して閉鎖型内へ流入させるもの;そのための装置
17
構成部品,細部または付属装置;補助操作
46
成形材料を可塑化,均質化または金型内に圧入するための手段
53
射出ラムまたはピストンを用いるもの
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
45
射出成形,即ち所要量の成形材料をノズルを介して閉鎖型内へ流入させるもの;そのための装置
17
構成部品,細部または付属装置;補助操作
46
成形材料を可塑化,均質化または金型内に圧入するための手段
58
細部
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
K
サブクラスB29B,B29CまたはB29Dに関連する成形材料,あるいは補強材,充填材,予備成形部品(たとえば挿入物)用の材料についてのインデキシング系列
101
不特定の高分子物質を成形材料として使用
10
熱硬化性樹脂
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
L
サブクラスB29Cに関連する特定物品についてのインデキシング系列
11
光学部品,例.レンズ,プリズム
出願人:
細江 秀 HOSOE, Shigeru [JP/JP]; JP (UsOnly)
宮崎 岳美 MIYAZAKI, Takemi [JP/JP]; JP (UsOnly)
藤井 雄一 FUJII, Yuiti [JP/JP]; JP (UsOnly)
コニカミノルタオプト株式会社 Konica Minolta Opto, Inc. [JP/JP]; 〒1928505 東京都八王子市石川町2970番地 Tokyo 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505, JP (AllExceptUS)
発明者:
細江 秀 HOSOE, Shigeru; JP
宮崎 岳美 MIYAZAKI, Takemi; JP
藤井 雄一 FUJII, Yuiti; JP
優先権情報:
2007-01936830.01.2007JP
発明の名称: (EN) OPTICAL ELEMENT FORMING APPARATUS AND OPTICAL ELEMENT FORMING METHOD
(FR) APPAREIL DE FORMATION D'ÉLÉMENT OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'ÉLÉMENT OPTIQUE
(JA) 光学素子の成形装置及び光学素子の成形方法
要約:
(EN) Provided are an apparatus and a method for forming an optical element, by which an operation rate can be improved irrespective of the characteristics of a forming material. The optical element forming apparatus has a structure wherein a lower mold (LM) has a holding cavity (LMb), and a pressing plunger (PP) enters the holding cavity (LMb) through an upper mold (UM). Since the pressing plunger (PP) is not brought into contact with a liquefied resin until just before pressing a molding material (MM), flowing and curing of the resin into/at a gap between the pressing plunger (PP) and a through hole (UMc) are suppressed, and interruption of forming operation due to cleaning operation can be suppressed.
(FR) La présente invention concerne un appareil et un procédé destinés à former un élément optique, par lesquels un taux de fonctionnement peut être amélioré quelles que soient les caractéristiques d'un matériau de formation. L'appareil de formation d'un élément optique a une structure dans laquelle un moule inférieur (LM) a une cavité de soutien (LMb), et un plongeur de pressage (PP) entre dans la cavité de soutien (LMb) à travers un moule supérieur (UM). Puisque le plongeur de pressage (PP) n'est pas amené en contact avec une résine liquéfiée jusqu'au moment précédant le pressage d'un matériau de moulage (MM), l'écoulement et la vulcanisation de la résine dans/sur un écart entre le plongeur de pressage (PP) et un trou traversant (UMc) sont supprimés, et une interruption de l'opération de formation à cause de l'opération de nettoyage peut être supprimée.
(JA)  成形材料の性質に関わらず、稼働率を高めることができる光学素子の成形装置及び成形方法を提供する。下型LMに保持キャビティLMbを設け、押圧プランジャPPは、上型UMを通って保持キャビティLMbに侵入する構造とする。このようにすることにより、押圧プランジャPPは、成形材料MMを押圧する直前まで液体化した樹脂に触れないため、押圧プランジャPPと貫通孔UMcとの隙間に樹脂が流れ込んで硬化することを抑制し、これにより清掃作業による成形動作の中断を抑えることができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)