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1. (WO2008075749) 露光方法及び装置、並びに基板保持装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/075749    国際出願番号:    PCT/JP2007/074581
国際公開日: 26.06.2008 国際出願日: 20.12.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01), H02N 13/00 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ARAI, Dai [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ARAI, Dai; (JP)
代理人: OMORI, Satoshi; Omori Patent Office, 2075-2-501, Noborito, Tama-ku, Kawasaki-shi Kanagawa 2140014 (JP)
優先権情報:
2006-344993 21.12.2006 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE METHOD AND APPARATUS AND SUBSTRATE HOLDING APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET APPAREIL, ET APPAREIL DE SUPPORT DE SUBSTRAT
(JA) 露光方法及び装置、並びに基板保持装置
要約: front page image
(EN)In an exposure apparatus, a movable section for driving a substrate is simplified or reduced in sizes, and exposure is performed by keeping plalnarity of the surface of the substrate high as needed. The exposure apparatus performs exposure to a wafer (W) with exposure light (IL) through a projection optical system (PL). The exposure apparatus is provided with a wafer pack (28), which has a glass substrate (29) arranged to face the wafer (W), and a mechanism for holding the wafer (W) by adhering the surface of the wafer (W) to the bottom surface of the glass substrate (29); an electrostatic bearing member (37), which is arranged at a lower section of the projection optical system (PL) and provided with an electrode member (75) for sucking and holding the glass substrate (29) with an electrostatic force; and an XY coil carrier (40) for magnetically driving the wafer pack (28) in the horizontal direction.
(FR)Selon l'invention, dans un appareil d'exposition, une section mobile permettant d'attaquer un substrat est simplifiée ou de taille réduite et l'exposition est effectuée en maintenant élevée, comme nécessaire, la planéité de la surface du substrat. L'appareil d'exposition effectue une exposition sur une tranche (W) grâce à de la lumière d'exposition (IL) au travers d'un système optique de projection (PL). L'appareil d'exposition est muni d'un bloc (28) pour tranche qui comporte un substrat de verre (29) disposé pour faire face à la tranche (W) et d'un mécanisme pour maintenir la tranche (W) en collant la surface de la tranche (W) à la surface inférieure du substrat de verre (29), d'un élément de palier électrostatique (37) qui est disposé sur une section inférieure du système optique de projection (PL) et qui est muni d'une électrode (75) permettant d'aspirer et de maintenir le substrat de verre (29) avec une force électrostatique, ainsi que d'un support de bobine XY (40) permettant d'attaquer magnétiquement le bloc (28) pour tranche dans la direction horizontale.
(JA) 基板を駆動するための可動部を簡素化又は小型化できるとともに、必要に応じてその基板の表面の平面度を高く維持した状態で露光できる露光装置である。露光光(IL)で投影光学系(PL)を介してウエハ(W)を露光する露光装置において、ウエハ(W)に対向して配置されたガラス板(29)、及びガラス板(29)の底面にウエハ(W)表面を密着させてウエハ(W)を保持する機構を有するウエハパック(28)と、投影光学系(PL)の下部に配置されてガラス板(29)を静電力によって吸引して保持するための電極部材(75)を有する静電軸受部材(37)と、ウエハパック(28)を横方向に磁気的に駆動するためのXYコイルキャリア(40)とを備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)