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1. (WO2008072637) コロイダルシリカの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/072637    国際出願番号:    PCT/JP2007/073884
国際公開日: 19.06.2008 国際出願日: 11.12.2007
予備審査請求日:    30.06.2008    
IPC:
C01B 33/141 (2006.01)
出願人: FUSO CHEMICAL CO. LTD. [JP/JP]; 3-10, Kouraibashi 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410043 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KONISHI, Taku [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KONISHI, Taku; (JP)
代理人: KIYOHARA, Yoshihiro; 1-3, Dojimahama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300004 (JP)
優先権情報:
2006-335150 12.12.2006 JP
2006-335151 12.12.2006 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING COLLOIDAL SILICA
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SILICE COLLOÏDALE
(JA) コロイダルシリカの製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a colloidal silica using silicon metal as a raw material, which enables to produce a colloidal silica having high concentration and low viscosity. Also disclosed a method for producing a colloidal silica using silicon metal as a raw material, which enables to produce a colloidal silica in short time with high yield without comprising a concentration step. Further disclosed is a method for producing a colloidal silica, which enables to easily control the particle size of silica contained in a colloidal silica. Specifically disclosed is a method for producing a colloidal silica comprising a step for obtaining a colloidal silica by reacting silicon metal (Si) with water in an aqueous solution containing an alkaline catalyst and a dispersing agent, wherein the dispersing agent is composed of one or more ionic substances selected from inorganic acids, organic acids and their salts. Also specifically disclosed is a method for producing a colloidal silica comprising a step for controlling the particle size of silica by adjusting the addition rate of silicon metal into an aqueous solution containing an alkaline catalyst and a dispersing agent.
(FR)L'invention propose un procédé de fabrication d'une silice colloïdale à l'aide de silicium métallique en tant que matière première, qui permet de produire une silice colloïdale ayant une concentration élevée et une faible viscosité. L'invention propose également un procédé de fabrication d'une silice colloïdale à l'aide de silicium métallique en tant que matière première, qui permet de produire une silice colloïdale en un laps de temps court avec un rendement élevé mais qui ne comprend pas d'étape de concentration. L'invention propose en outre un procédé de fabrication d'une silice colloïdale, qui permet de contrôler facilement la dimension de particule de la silice contenue dans une silice colloïdale. L'invention propose particulièrement un procédé pour fabriquer une silice colloïdale comportant une étape pour l'obtention d'une silice colloïdale par la réaction de silicium métallique (Si) avec de l'eau dans une solution aqueuse contenant un catalyseur alcalin et un agent de dispersion, l'agent de dispersion étant composé d'une ou de plusieurs substances ioniques choisies parmi les acides inorganiques, les acides organiques et leurs sels. L'invention propose également particulièrement un procédé de fabrication d'une silice colloïdale qui comporte une étape pour le contrôle de la dimension de particule de silice par l'ajustement de la vitesse de réaction du silicium métallique dans une solution aqueuse contenant un catalyseur alcalin et un agent de dispersion.
(JA)(課題)金属珪素を原料とするコロイダルシリカの製造方法により、高濃度で且つ低粘度のコロイダルシリカを生成すること、及び金属珪素を原料とするコロイダルシリカの製造方法において、濃縮工程を含まず、短時間で高い収率でコロイダルシリカを製造する方法、更には、簡便にコロイダルシリカに含まれるシリカの粒子径を調節可能なコロイダルシリカの製造方法を提供すること。 (解決手段)アルカリ性触媒及び分散剤を含む水溶液中で、金属珪素(Si)と水を反応させてコロイダルシリカを得る工程を含み、前記分散剤は、無機酸、有機酸又はそれらの塩から選ばれる一種以上のイオン性物質であるコロイダルシリカの製造方法、更には、アルカリ性触媒及び分散剤を含む水溶液中への金属珪素の添加速度を制御してシリカの粒子径を調節する段階を含むコロイダルシリカの製造方法とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)