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1. (WO2008072486) スパッタリングターゲット及び酸化物半導体膜
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/072486    国際出願番号:    PCT/JP2007/073134
国際公開日: 19.06.2008 国際出願日: 30.11.2007
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), C04B 35/00 (2006.01)
出願人: IDEMITSU KOSAN CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008321 (JP) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, SV, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
INOUE, Kazuyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YANO, Koki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
UTSUNO, Futoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: INOUE, Kazuyoshi; (JP).
YANO, Koki; (JP).
UTSUNO, Futoshi; (JP)
代理人: WATANABE, Kihei; Shibashin Kanda Bldg. 3rd Floor 26, Kanda Suda-cho 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010041 (JP)
優先権情報:
2006-335817 13.12.2006 JP
2007-000417 05.01.2007 JP
2007-000418 05.01.2007 JP
2007-054185 05.03.2007 JP
発明の名称: (EN) SPUTTERING TARGET AND OXIDE SEMICONDUCTOR FILM
(FR) CIBLE DE SUBLIMATION ET FILM SEMI-CONDUCTEUR À BASE D'OXYDE
(JA) スパッタリングターゲット及び酸化物半導体膜
要約: front page image
(EN)Disclosed is a sputtering target containing an oxide of indium (In), gallium (Ga) and zinc (Zn), which specifically contains a compound expressed as ZnGa2O4 and a compound expressed as InGaZnO4.
(FR)Cible de sublimation contenant un oxyde d'indium (In), de gallium (Ga) et de zinc (Zn), qui renferme spécifiquement un composé s'exprimant sous forme ZnGa2O4 et un composé s'exprimant sous forme InGaZnO4.
(JA) インジウム(In)、ガリウム(Ga)及び亜鉛(Zn)の酸化物を含有するスパッタリングターゲットであって、ZnGaで表される化合物及びInGaZnOで表される化合物含むスパッタリングターゲット。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)