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1. (WO2008069203) 基板処理装置および基板処理方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/069203    国際出願番号:    PCT/JP2007/073399
国際公開日: 12.06.2008 国際出願日: 04.12.2007
IPC:
H01L 21/68 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01), G09F 9/00 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MORII, Kojiro [JP/--]; (米国のみ)
発明者: MORII, Kojiro;
代理人: TANAKA, Mitsuo; AOYAMA & PARTNERS IMP Building 3-7, Shiromi 1-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 540-0001 (JP)
優先権情報:
2006-327976 05.12.2006 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置および基板処理方法
要約: front page image
(EN)Based on the positions of a first marker and a second marker of a first substrate placed on a placing surface of a substrate placing table (1), a substrate processing apparatus makes the direction of a line connecting the first marker and the second marker accord with the moving direction of a gantry (2). The positions of the first marker and a third marker, in the status where the direction of the line connecting the first marker and the second marker accord with the moving direction, are stored in a storage section. After a second substrate is placed on the placing surface of the substrate placing table (1), the direction of a line connecting the first marker and the third marker on the second substrate is permitted to accord with the direction which is of the line connecting the first marker on the first substrate and the third marker on the second substrate and is calculated based on the information stored in the storage section.
(FR)Selon la présente invention, sur la base des positions d'un premier marqueur et d'un deuxième marqueur d'un premier substrat placé sur une surface de placement d'un tableau de placement de substrat (1), un appareil de traitement de substrat permet à la direction d'une ligne reliant le premier marqueur et le deuxième marqueur de s'accorder à la direction de déplacement d'un portique (2). Les positions du premier marqueur et d'un troisième marqueur, dans l'état où la direction de la ligne reliant le premier marqueur et le deuxième marqueur s'accorde à la direction de déplacement, sont stockées dans une section de stockage. Après qu'un second substrat soit placé sur la surface de placement du tableau de placement de substrat (1), la direction d'une ligne reliant le premier marqueur et le troisième marqueur sur le second substrat peut s'accorder à la direction qui est celle de la ligne reliant le premier marqueur sur le premier substrat et le troisième marqueur sur le second substrat et est calculée sur la base de l'information stockée dans la section de stockage.
(JA) この基板処理装置は、基板載置台(1)の載置面に載置された第1基板の第1マーカーおよび第2マーカーの位置に基づいて、第1マーカーと第2マーカーとを結んだ線の方向を、ガントリー(2)の移動可能に一致させ、第1マーカーと第2マーカーとを結んだ線の方向が、上記移動方向に一致している状態での第1マーカーの位置と第3マーカーの位置とを記憶部に記憶し、基板載置台(1)の載置面に第2基板を載置した上で、第2基板において、第2基板上の第1マーカーと第3マーカーとを結んだ線の方向を、記憶部に記憶されている情報に基づいて算出された第1基板上の第1マーカーと第2基板上の第3マーカーとを結んだ線の方向に一致させる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)