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World Intellectual Property Organization
1. (WO2008069159) マイクロレンズの製造方法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/069159    国際出願番号:    PCT/JP2007/073276
国際公開日: 12.06.2008 国際出願日: 27.11.2007
G02B 3/00 (2006.01), G03F 7/022 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01), H01L 27/14 (2006.01)
出願人: JSR CORPORATION [JP/JP]; 6-10, Tsukiji 5-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040045 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIMADA, Mibuko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YONEZAWA, Fumiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SHIMADA, Mibuko; (JP).
YONEZAWA, Fumiko; (JP)
代理人: OHSHIMA, Masataka; Ohshima Patent Office, BN Gyoen Building, 17-11, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
2006-320117 28.11.2006 JP
2006-320118 28.11.2006 JP
2007-079538 26.03.2007 JP
(JA) マイクロレンズの製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a microlens, which comprises a step for applying a radiation-sensitive resin composition over a substrate, a step for performing patterning through exposure and development, a step for applying a composition for forming a microlens upper film, and a step for performing a heat treatment. This method enables to produce microlenses with a narrow pitch between adjacent microlenses. The composition for forming a microlens upper film contains a polymer having at least one acid group selected from the group consisting of a carboxylic acid group, a sulfonic acid group and a phosphoric acid group.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une microlentille, qui comprend une étape consistant à appliquer une composition de résine sensible au rayonnement sur un substrat, une étape consistant à réaliser des motifs par exposition et développement, une étape consistant à appliquer une composition pour former un film supérieur de microlentille, et une étape pour effectuer un traitement thermique. Ce procédé permet de fabriquer des microlentilles avec un pas étroit entre des microlentilles adjacentes. La composition pour former un film supérieur de microlentille contient un polymère ayant au moins un groupe acide choisi dans le groupe constitué par un groupe acide carboxylique, un groupe acide sulfonique et un groupe acide phosphorique.
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)