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1. (WO2008069014) レジスト表面改質剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/069014    国際出願番号:    PCT/JP2007/072362
国際公開日: 12.06.2008 国際出願日: 19.11.2007
IPC:
G03F 7/38 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KUMAGAI, Tomoya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOSHIYAMA, Jun [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WAKIYA, Kazumasa [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAWANO, Atsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KUMAGAI, Tomoya; (JP).
KOSHIYAMA, Jun; (JP).
WAKIYA, Kazumasa; (JP).
SAWANO, Atsushi; (JP)
代理人: SHOBAYASHI, Masayuki; Takase Bldg., 25-8, Higashi-ikebukuro 1-chome, Toshima-ku, Tokyo 1700013 (JP)
優先権情報:
2006-331852 08.12.2006 JP
2006-331853 08.12.2006 JP
2006-331854 08.12.2006 JP
発明の名称: (EN) SURFACE MODIFIER FOR RESIST AND METHOD FOR THE FORMATION OF RESIST PATTERNS WITH THE SAME
(FR) MODIFICATEUR DE SURFACE POUR RÉSIST ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS DE RÉSIST AVEC CELUI-CI
(JA) レジスト表面改質剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)The invention provides a surface modifier for resist which can modify the surface of photoresist film to enhance the wettability of the surface by a developer sufficiently and which is excellent in safety; and a method for the formation of resist patterns with the modifier. A surface modifier for resist which consists of an aqueous solution of at least one amine oxide represented by the general formula (1) or (2): (1) (2) wherein R1 is either alkyl of 8 to 20 carbon atoms which may be interrupted by oxygen or hydroxyalkyl; and n and m are each an integer of 1 to 5.
(FR)L'invention concerne un modificateur de surface pour résist, qui permet de modifier la surface d'un film de photorésist de manière à améliorer la mouillabilité de la surface par un développeur de façon suffisante et qui présente une excellente sécurité. L'invention concerne également un procédé pour la formation de motifs de résist avec le modificateur. Ce modificateur de surface pour résist consiste en une solution aqueuse d'au moins un oxyde d'amine représenté par la formule générale (1) ou (2) : (1) (2) dans lesquelles R1 représente soit alkyle de 8 à 20 atomes de carbone qui peut être interrompu par un oxygène, soit hydroxyalkyle ; et n et m représentent chacun un entier de 1 à 5.
(JA) ホトレジスト膜表面を改質して現像液に対する濡れ性を十分に高めることが可能であり、かつ安全性に優れたレジスト表面改質剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。  下記一般式(1)及び(2)で表されるアミンオキシド化合物の少なくとも1種を含有する水性溶液をレジスト表面改質剤とする。 (式(1)、(2)中、Rは酸素原子で中断されていてもよい炭素数8~20のアルキル基又はヒドロキシアルキル基を示し、n及びmは1~5の整数を示す。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)