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1. (WO2008066011) ポジ型感放射線性樹脂組成物およびパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/066011    国際出願番号:    PCT/JP2007/072794
国際公開日: 05.06.2008 国際出願日: 27.11.2007
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: JSR CORPORATION [JP/JP]; 5-6-10, Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo 1048410 (JP) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, SV, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
SHIMIZU, Daisuke; (米国のみ).
MATSUMURA, Nobuji; (米国のみ).
KAI, Toshiyuki; (米国のみ)
発明者: SHIMIZU, Daisuke; .
MATSUMURA, Nobuji; .
KAI, Toshiyuki;
代理人: WAKI, Misao; 2-6, Shiroyama 1-chome, Toin-cho, Inabe-gun, Mie 5110233 (JP)
優先権情報:
2006-320431 28.11.2006 JP
2007-059341 09.03.2007 JP
発明の名称: (EN) POSITIVE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT POSITIF ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
(JA) ポジ型感放射線性樹脂組成物およびパターン形成方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a positive radiation-sensitive resin composition which is excellent in nano edge roughness, etching resistance, sensitivity and resolution, and enables to stably form a high-precision fine pattern. Specifically disclosed is a positive radiation-sensitive resin composition containing a radiation-sensitive acid generator (A) and an acid-cleavable group-containing resin (B). The radiation-sensitive acid generator (A) is a mixed acid generator containing an acid generator (A1) and another acid generator (A2), and the acid generator (A1) and the acid generator (A2) have a same cation. The acid generator (A1) is represented by the formula (1) below and generates a carboxylic acid having a boiling point at atmospheric pressure of not less than 150˚C when irradiated with radiation. The acid generator (A2) is represented by the formula (2) below and generates an acid other than carboxylic acids when irradiated with radiation. The resin (B) contains the repeating unit (i) below, the repeating unit (ii) below and the repeating unit (iii) below. M+RCOO- (1) M+X- (2) In the above formulae, M+ represents a monovalent onium cation; R represents a monovalent organic group; and X- represents a monovalent anion.
(FR)L'invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement positif qui est excellente en termes de rugosité de bord nanométrique, de résistance à la gravure, de sensibilité et de résolution, et permet de former de façon stable un motif fin haute précision. L'invention concerne de façon spécifique une composition de résine sensible au rayonnement positif contenant un générateur d'acide sensible au rayonnement (A) et une résine contenant un groupe clivable par un acide (B). Le générateur d'acide sensible au rayonnement (A) est un générateur d'acide mélangé contenant un générateur d'acide (A1) et un autre générateur d'acide (A2), et le générateur d'acide (A1) et le générateur d'acide (A2) ont le même cation. Le générateur d'acide (A1) est représenté par la formule (1) ci-après et génère un acide carboxylique ayant un point d'ébullition à la pression atmosphérique non inférieur à 150 °C lorsqu'il est irradié par un rayonnement. Le générateur d'acide (A2) est représenté par la formule (2) ci-après et génère un acide autre que les acides carboxyliques lorsqu'il est irradié par un rayonnement. La résine (B) contient l'unité de répétition (i) ci-après, l'unité de répétition (ii) ci-après et l'unité de répétition (iii) ci-après. M+RCOO- (1) M+X- (2) Dans les formules ci-dessus, M+ représente un cation onium monovalent ; R représente un groupe organique monovalent ; et X- représente un anion monovalent.
(JA) ナノエッジラフネス、エッチング耐性、感度、および解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。感放射線性酸発生剤(A)と、酸解離性基含有樹脂(B)とを含み、感放射線性酸発生剤(A)は、酸発生剤(A1)と酸発生剤(A2)とを含む混合酸発生剤であり、酸発生剤(A1)と酸発生剤(A2)とは同一のカチオンを有し、上記酸発生剤(A1)は、常圧における沸点が150°C以上のカルボン酸を放射線照射により発生し、かつ下記式(1)で表され、上記酸発生剤(A2)は、カルボン酸以外の酸を放射線照射により発生し、かつ下記式(2)で表され、上記樹脂(B)は、下記繰り返し単位(i)、下記繰り返し単位(ii)および下記繰り返し単位(iii)を含む。 M+RCOO- (1) M+X- (2) Mは1価のオニウムカチオンであり、Rは1価の有機基であり、Xは1価のアニオンである。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)