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1. (WO2008065924) 液浸露光用塗布膜形成装置および塗布膜形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/065924    国際出願番号:    PCT/JP2007/072394
国際公開日: 05.06.2008 国際出願日: 19.11.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), B05C 9/14 (2006.01), B05C 11/00 (2006.01), B05C 11/08 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KYOUDA, Hideharu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KITANO, Junichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMAMOTO, Taro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KYOUDA, Hideharu; (JP).
KITANO, Junichi; (JP).
YAMAMOTO, Taro; (JP)
代理人: TAKAYAMA, Hiroshi; Hirakawacho Tsujita Bldg. 2F 1-7-20 Hirakawacho, Chiyoda-ku Tokyo 1020093 (JP)
優先権情報:
2006-321008 29.11.2006 JP
発明の名称: (EN) IMMERSION EXPOSURE COAT FILM FORMING APPARATUS AND IMMERSION EXPOSURE COAT FILM FORMING METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ POUR LA FORMATION D'UN FILM PROTECTEUR POUR UNE EXPOSITION PAR IMMERSION
(JA) 液浸露光用塗布膜形成装置および塗布膜形成方法
要約: front page image
(EN)An immersion exposure coat film forming apparatus is provided for forming a coat film composed of a resist film or a coat film composed of a resist film and other film on a substrate to be exposed by an immersion exposure apparatus through a liquid. The immersion exposure coat film forming apparatus is provided with one or a plurality of coating units for coating the substrate with the resist film or the resist film and other film; one or a plurality of thermal treatment units for performing thermal treatment required for coat film formation on the substrate; an inspection unit for inspecting the status of the coating film at the edge section of the substrate prior to immersion exposure; and a control section which judges whether the coat film status at the edge section of the substrate is within the allowable range or not, based on the inspection results obtained from the inspection unit, and permits the substrate to be carried into the exposure apparatus when it is within the allowable range.
(FR)L'invention concerne un appareil de formation de film protecteur pour exposition par immersion permettant de former un film protecteur composé d'une réserve ou un film protecteur composé d'une réserve et d'un autre film sur un substrat devant être exposé à un liquide par un appareil d'exposition par immersion. L'appareil de formation de film protecteur pour exposition par immersion est équipé d'une ou plusieurs unités de revêtement pour recouvrir le substrat avec la réserve ou la réserve et l'autre film; d'une ou plusieurs unités de traitement thermique pour effectuer le traitement thermique nécessaire à la formation du film protecteur sur le substrat; d'une unité d'inspection pour inspecter l'état du film protecteur sur les bords du substrat avant l'exposition par immersion; et d'une section de contrôle qui vérifie si l'état du film protecteur sur les bords du substrat se situe à l'intérieur de la plage autorisée, d'après les résultats d'inspection obtenus par l'unité d'inspection, et qui permet de transporter le substrat dans l'appareil d'exposition quand il se situe dans la plage autorisée.
(JA) 液体を介して露光処理を施す液浸露光装置に供される基板に対してレジスト膜またはレジスト膜と他の膜とからなる塗布膜を形成する液浸露光用塗布膜形成装置は、基板にレジスト膜またはレジスト膜と他の膜を塗布する一または複数の塗布ユニットと、基板に対して塗布膜形成に必要な熱的処理を行う一または複数の熱的処理ユニットと、液浸露光前に基板のエッジ部における塗布膜の状態を検査する検査ユニットと、検査ユニットでの検査結果に基づいて基板のエッジ部における塗布膜の状態が許容範囲か否かを判断し、許容範囲であった場合に露光装置への基板の搬入を許容する制御部とを具備する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)