WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2008065845) SiO焼結体の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/065845    国際出願番号:    PCT/JP2007/071194
国際公開日: 05.06.2008 国際出願日: 31.10.2007
予備審査請求日:    03.07.2008    
IPC:
C04B 35/622 (2006.01), C04B 35/01 (2006.01), C23C 14/30 (2006.01)
出願人: OSAKA Titanium technologies Co., Ltd. [JP/JP]; 1, Higashihama-cho, Amagasaki-shi Hyogo 6608533 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NATSUME, Yoshitake [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NATSUME, Yoshitake; (JP)
代理人: YANAGIDATE, Takahiko; Taisei Patent Agent 6-15, Kawaramachi 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5410048 (JP)
優先権情報:
2006-320277 28.11.2006 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR FABRICATING SiO SINTERED BODY
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN CORPS EN SIO FRITTÉ
(JA) SiO焼結体の製造方法
要約: front page image
(EN)In a powder-sintered-type SiO sintered body used for forming an evaporated film of silicon monoxide, evaporated residue is reduced, material strength durable for use is ensured, and the occurrence of splash is prevented. To achieve these objects, a mixed powder of small grain size powder and large grain size powder manufactured from separated SiO is used as a sintered material powder of the SiO sintered body. The mixed ratio of the small grain size powder to the material powder is set to 10 to 30 wt%. The sintering temperature is set to as low as 700 to 1,000 ˚C.
(FR)Dans le cas d'un corps en SiO fritté obtenu par frittage de poudre et utilisé pour la fabrication d'une pellicule de monoxyde de silicium évaporé, l'évaporation des résidus est réduite, une résistance durable en cours d'utilisation du matériau est assurée et la survenue de projections est évitée. Pour réaliser cela, on utilise, en tant que poudre de matière première frittée pour le corps en SiO fritté, une poudre mixte associant une poudre présentant une petite taille de grain et une poudre présentant une grande taille de grain fabriquées à partir de SiO isolé. Le rapport de mélange entre la poudre présentant une petite taille de grain et la poudre de matière première est fixé à 10 à 30 %. La température de frittage ne dépasse pas 700 à 1 000 °C.
(JA) 一酸化珪素の蒸着膜の形成に使用される粉末焼結型のSiO焼結体において、蒸発残渣を少なくする。使用に耐える材料強度を確保する。スプラッシュの発生を抑制する。これらを実現するために、SiO焼結体の焼結原料粉末として、析出SiOから製造した小粒径粉と大粒径粉の混合粉末を使用する。原料粉末における小粒径粉の混合比率を10~30wt%とする。焼結温度を700~1000°Cと低くする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)