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1. (WO2008065838) トリクロロシランの製造方法およびトリクロロシランの製造装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/065838    国際出願番号:    PCT/JP2007/070912
国際公開日: 05.06.2008 国際出願日: 26.10.2007
IPC:
C01B 33/107 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 5-1, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117 (JP) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, SV, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
MIZUSHIMA, Kazuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIMIZU, Yuji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MIZUSHIMA, Kazuki; (JP).
SHIMIZU, Yuji; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2006-323097 30.11.2006 JP
2007-273547 22.10.2007 JP
発明の名称: (EN) PROCESS FOR PRODUCING TRICHLOROSILANE AND APPARATUS FOR PRODUCING TRICHLOROSILANE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE TRICHLOROSILANE ET DISPOSITIF DE PRODUCTION DE TRICHLOROSILANE
(JA) トリクロロシランの製造方法およびトリクロロシランの製造装置
要約: front page image
(EN)This invention provides a process and apparatus for producing trichlorosilane. The process comprises reacting tetrachlorosilane with hydrogen at 900°C to 1900°C to produce a reaction produced gas containing trichlorosilane and hydrogen chloride, cooling the reaction produced gas led out from a reaction chamber to 300°C to 800°C. According to the above constitution, the cooling rate of the reaction produced gas is rendered proper to prevent a reverse reaction to tetrachlorosilane and byproduction of polymer. The cooled reaction produced gas is subjected to heat exchange with at least one of tetrachlorosilane and hydrogen introduced into a reaction chamber (2) for preheating.
(FR)La présente invention concerne un procédé et un dispositif de production de trichlorosilane. Le procédé comprend la réaction du tétrachlorosilane avec de l'hydrogène à 900 à 1 900 °C en vue de la formation d'un gaz produit par la réaction contenant du trichlorosilane et du chlorure d'hydrogène, cela étant suivi du refroidissement, jusqu'à 300 à 800 °C, du gaz produit par la réaction et conduit hors de la chambre réactionnelle. Selon ce qui est indiqué plus haut, la vitesse de refroidissement du gaz produit par la réaction est telle à éviter une réaction inverse redonnant du tétrachlorosilane et la production d'un sous-produit de type polymère. Le gaz refroidi produit par la réaction est soumis à un processus d'échange de chaleur par introduction d'au moins l'un des composés que sont le tétrachlorosilane et l'hydrogène dans la chambre réactionnelle (2) en vue d'un préchauffage.
(JA) テトラクロロシランと水素とを900°C~1900°Cで反応させてトリクロロシランと塩化水素を含む反応生成ガスを生成させ、反応室から導出された反応生成ガスを300°C~800°Cにまで冷却することによって、反応生成ガスの冷却速度を適正化してテトラクロロシランへの逆反応およびポリマーの副生を防止し、この冷却した反応生成ガスを反応室2に導入されるテトラクロロシランまたは水素の少なくとも一方との間で熱交換を行って予熱するトリクロロシランの製造方法および装置。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)