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1. (WO2008062896) マイクロリアクター
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/062896    国際出願番号:    PCT/JP2007/072883
国際公開日: 29.05.2008 国際出願日: 20.11.2007
IPC:
B01J 19/00 (2006.01), B01J 23/80 (2006.01), B81B 1/00 (2006.01), H01M 8/06 (2006.01)
出願人: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Ichigaya Kagacho 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KIHARA, Takeshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAGI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAKEUCHI, Akihiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KIHARA, Takeshi; (JP).
YAGI, Hiroshi; (JP).
TAKEUCHI, Akihiko; (JP)
代理人: YONEDA, Junzo; 4F, Matsui Bldg., 28-2, Kanda Tomiyamacho Chiyoda-ku, Tokyo 1010043 (JP)
優先権情報:
2006-316710 24.11.2006 JP
発明の名称: (EN) MICROREACTOR
(FR) MICRORÉACTEUR
(JA) マイクロリアクター
要約: front page image
(EN)Microreactor (1) comprising vacuum housing (2); microreactor main body (4) disposed in vacuum closed cavity (3) of the vacuum housing (2); and getter heating substratum (6) provided on at least one surface of the microreactor main body (4). The microreactor main body (4) has raw material introduction port (19a) connected to the outside of the vacuum housing (2) by means of raw material supply pipe (5A) and gas emission port (19b) connected to the outside of the vacuum housing (2) by means of gas emission pipe (5B). The getter heating substratum (6) includes substratum (7), heating element (9) provided on the substratum (7) in noncontact relationship and getter material layer (10).
(FR)Microréacteur (1) comprenant une enceinte à vide (2) ; un corps principal (4) de microréacteur disposé dans une cavité fermée à vide (3) de l'enceinte à vide (2) ; et un substrat (6) de chauffage de getter disposé sur au moins une surface du corps principal (4) de microréacteur. Le corps principal (4) de microréacteur comporte un orifice (19a) d'introduction de matière brute raccordé à l'extérieur de l'enceinte à vide (2) au moyen d'un tube (5A) d'amenée de matière brute, et un orifice (19b) d'émission de gaz raccordé à l'extérieur de l'enceinte à vide (2) au moyen d'un tube (5B) d'émission de gaz. Le substrat (6) de chauffage de getter comprend un substrat (7), un élément chauffant (9) disposé au-dessus du substrat (7) sans entrer au contact de celui-ci, et une couche (10) de getter.
(JA)マイクロリアクター1を、真空筺体2と、この真空筺体2の真空密閉キャビティ3内に配設されたマイクロリアクター本体4と、マイクロリアクター本体4の少なくとも1つの面に位置するゲッター発熱基板6とを備えたものとし、マイクロリアクター本体4は原料供給管5Aにより真空筺本2の外部と接続さた原料導入口19a、およびガス排出管5Bにより真空筺体2の外部と接続されガス排出口19bとを有し、ゲッター発熱基板6は、基板7と、基板7上に相互に非接触状態で配設された発熱体9とゲッター材層10とを有するものとした。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)