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1. (WO2008062772) 磁気記憶媒体の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/062772    国際出願番号:    PCT/JP2007/072421
国際公開日: 29.05.2008 国際出願日: 20.11.2007
IPC:
G11B 5/84 (2006.01)
出願人: ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAMAMOTO, Tadashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMAKAWA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAMAMOTO, Tadashi; (JP).
YAMAKAWA, Hiroyuki; (JP)
代理人: ONDA, Hironori; 12-1, Ohmiya-cho 2-chome Gifu-shi, Gifu 5008731 (JP)
優先権情報:
2006-315556 22.11.2006 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MILIEU D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気記憶媒体の製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for manufacturing a magnetic recording medium having improved flatness. A recording layer (15) is formed on a substrate (11), and a resist mask (R) is then formed on top of the recording layer (15). Then, a recessed portion (H) is formed in the recording layer (15) by using the resist mask (R). Next, a non-magnetic layer (16) having a thickness corresponding to the depth of the recessed portion (H) is formed in the recessed portion (H) and on top of the resist mask (R). Then, the resist mask (R) and the non-magnetic layer (16) formed on top of the resist mask (R) is removed from the recording layer (15).
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication de milieu d'enregistrement magnétique comportant une planéité améliorée. Une couche d'enregistrement (15) est formée sur un substrat (11) et un masque de résist (R) est ensuite formé sur le dessus de la couche d'enregistrement (15). Ensuite, une portion en retrait (H) est formée dans la couche d'enregistrement (15) à l'aide du masque de résist (R). Puis une couche non magnétique (16) d'une épaisseur qui correspond à la profondeur de la portion en retrait (H) est formée dans la portion en retrait (H) et sur le masque de résist (R) Finalement, ce masque (R) et la couche non magnétique (16) formée sur le masque de résist (R) sont retirés de la couche d'enregistrement (15).
(JA) 磁気記憶媒体の平坦性を向上させた磁気記憶媒体の製造方法。基板(11)に記憶層(15)が形成される。次いで、記憶層(15)の上方にレジストマスク(R)が形成される。次いで、レジストマスク(R)を使用して記憶層(15)に凹部(H)が形成される。次いで、凹部(H)の内部とレジストマスク(R)の上方とに、凹部(H)の深さに応じた膜厚を有する非磁性層(16)が形成される。次いで、レジストマスク(R)と、レジストマスク(R)の上方に形成された非磁性層(16)とが記憶層(15)から剥離される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)