WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2008062634) 3次元マイクロ構造体、その製造方法、及びその製造装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/062634    国際出願番号:    PCT/JP2007/070875
国際公開日: 29.05.2008 国際出願日: 26.10.2007
IPC:
B81C 99/00 (2010.01), C23C 18/31 (2006.01), C25D 1/02 (2006.01)
出願人: Nano Craft Technologies Co. [JP/JP]; Bldg. 2G, AIST East, 1-2-1 Namiki, Tsukuba-shi, Ibaraki 3050044 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KITA Manufacturing Co., Ltd. [JP/JP]; 4-27, Rinkuh-Minamihama, Sennan-shi Osaka 5900535 (JP) (米国を除く全ての指定国).
WANG, Qing [CN/JP]; (JP) (米国のみ).
GOTO, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MAEDA, Ryutaro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KITA, Toshiaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: WANG, Qing; (JP).
GOTO, Hiroshi; (JP).
MAEDA, Ryutaro; (JP).
KITA, Toshiaki; (JP)
代理人: KAWAMORITA, Koki; Kawamorita & Associates, T24 Building 4F, 2-45 Aomi, Koto-ku Tokyo 1358073 (JP)
優先権情報:
2006-315033 22.11.2006 JP
発明の名称: (EN) THREE-DIMENSIONAL MICROSTRUCTURE, METHOD FOR MANUFACTURING THE MICROSTRUCTURE, AND APPARATUS FOR MANUFACTURING THE MICROSTRUCTURE
(FR) MICROSTRUCTURE TRIDIMENSIONNELLE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE LA MICROSTRUCTURE, ET APPAREIL PERMETTANT DE FABRIQUER LA MICROSTRUCTURE
(JA) 3次元マイクロ構造体、その製造方法、及びその製造装置
要約: front page image
(EN)This invention provides a three-dimensional microstructure, a method for manufacturing the microstructure, and an apparatus for manufacturing the microstructure. In one embodiment of the manufacturing method, a mold with a fine pattern formed on the surface of a fibrous core material is manufactured. A metal is filled into the pattern by plating, and the mold is then removed. In a suitable embodiment, a fibrous core material with a resist layer formed on its surface is inserted into a cylindrical hole in a cylindrical mask, for photolithography, comprising a non-light-transparent mask pattern formed in a light transparent cylindrical shell. A laser beam is applied from the outer side of the cylindrical mask to a part of the cylindrical shell or the whole cylindrical shell at a time. Thereafter, the resist layer is developed to manufacture a mold.
(FR)Cette invention concerne une microstructure tridimensionnelle, un procédé de fabrication de la microstructure, et un appareil permettant de fabriquer la microstructure. Dans un mode de réalisation du procédé de fabrication, un moule avec un motif fin formé sur la surface d'un matériau à noyau fibreux est fabriqué. Un métal est introduit dans le motif par placage, et le moule est ensuite ôté. Dans mode de réalisation approprié, un matériau à noyau fibreux avec une couche de réserve formée sur sa surface est inséré dans un trou cylindrique dans un masque cylindrique, pour la photolithographie, comprenant un motif de masque non transparent à la lumière formé dans une enveloppe cylindrique transparente à la lumière. Un faisceau laser est appliqué depuis le côté extérieur du masque cylindrique sur une partie de l'enveloppe cylindrique ou sur l'ensemble de l'enveloppe cylindrique à la fois. Ensuite, la couche de réserve est conçue de sorte à fabriquer un moule.
(JA) 主に、3次元マイクロ構造体やその製造方法、およびその製造装置に関する。開示される新規な製造技術の一つにおいては、繊維状の芯材の表面に微細パターンが形成された鋳型を製造すると共に、メッキによりそのパターンに金属を充填し、その後鋳型を除去する。好適な実施形態においては、表面にレジスト層が形成された繊維状の芯材を、透光性の筒殻に非透光性のマスクパターンが形成された筒状の光リソグラフィ用マスクの筒孔に挿入すると共に、その筒殻の一部又は全部が一括照射されるように筒状マスクの外側からレーザを照射し、その後にレジスト層を現像することにより、鋳型を製造する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)