WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2008062554) ガス浄化装置、ガス浄化システムおよびガス浄化方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/062554    国際出願番号:    PCT/JP2007/001252
国際公開日: 29.05.2008 国際出願日: 19.11.2007
IPC:
F01N 3/02 (2006.01), B01D 53/94 (2006.01), B03C 3/02 (2006.01), B03C 3/08 (2006.01), B03C 3/38 (2006.01), B03C 3/40 (2006.01), B03C 3/41 (2006.01), F01N 3/08 (2006.01), F01N 3/24 (2006.01)
出願人: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA [JP/JP]; 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TANAKA, Motofumi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YASUI, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TANAKA, Motofumi; (JP).
YASUI, Hiroyuki; (JP)
代理人: SUYAMA, Saichi; Kanda Higashiyama Bldg., 1, Kandata-cho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010046 (JP)
優先権情報:
2006-313483 20.11.2006 JP
2006-313484 20.11.2006 JP
発明の名称: (EN) GAS PURIFYING DEVICE, GAS PURIFYING SYSTEM AND GAS PURIFYING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE PURIFICATION DE GAZ, SYSTÈME DE PURIFICATION DE GAZ ET PROCÉDÉ DE PURIFICATION DE GAZ
(JA) ガス浄化装置、ガス浄化システムおよびガス浄化方法
要約: front page image
(EN)A gas purifying device (10) comprises a first electric field forming means that forms discharging electric field in a gas flow path (36) where gas to be purified EG flows to generate discharge plasma P, and charges and burns PMs contained in the gas to be purified EG by the action of the discharge plasma P, a second electric field forming means that forms a precipitating electric field for capturing the charged PMs by an electric precipitating function and pulling out the discharge plasma P to the gas flow path side, and a charging electrode (35) that charges the flowing gas to be purified EG on the upstream side of the positions where the first electric field forming means and the second electric field forming means are respectively installed.
(FR)L'invention concerne un dispositif de purification de gaz (10) qui comprend un premier moyen de formation de champ électrique, qui forme un champ électrique de décharge dans un passage d'écoulement de gaz (36) où le gaz devant être purifié EG s'écoule afin de générer un plasma de décharge P, et charge et brûle les PM contenus dans le gaz devant être purifié par l'action du plasma de décharge P, un deuxième moyen de formation de champ électrique, qui forme un champ électrique de précipitation destiné à capturer les PM chargés par le biais d'une fonction de précipitation électrique et à extraire le plasma de décharge P vers le côté du passage d'écoulement de gaz, et une électrode de charge (35), qui charge le gaz en écoulement devant être purifié EG en amont des positions dans lesquelles le premier moyen de formation de champ électrique et le deuxième moyen de formation de champ électrique sont respectivement installés.
(JA) ガス浄化装置10は、浄化対象ガスEGが流動するガス流路36に放電用の電界を形成して放電プラズマPを生成し、浄化対象ガスEGに含まれるPMを放電プラズマPの作用により荷電するとともに燃焼処理する第1の電界形成手段と、荷電されたPMを電気的集塵機能により捕捉するとともに放電プラズマPをガス流路側に引出すための集塵用の電界を形成する第2の電界形成手段と、第1の電界形成手段および第2の電界形成手段が設置された位置よりも上流側に、流動する浄化対象ガスEGを荷電する荷電用電極35とを備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)