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1. (WO2008062496) セラミック部材、セラミック部材への溝の形成方法、および電子部品用基板
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/062496    国際出願番号:    PCT/JP2006/321800
国際公開日: 29.05.2008 国際出願日: 31.10.2006
IPC:
H05K 3/00 (2006.01), H05K 1/02 (2006.01), H05K 1/03 (2006.01)
出願人: KYOCERA Corporation [JP/JP]; 6, Takeda Tobadono-cho, Fushimi-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6128501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MATSUSAKI, Takahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MATSUSAKI, Takahiro; (JP)
代理人: SHIOTANI, Takashi; 1-10-7-401, Shinmachi Nishi-ku, Osaka-shi Osaka 5500013 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) CERAMIC MEMBER, METHOD OF FORMING GROOVE IN CERAMIC MEMBER, AND SUBSTRATE FOR ELECTRONIC PART
(FR) ÉLÉMENT CÉRAMIQUE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE RAINURE DANS UN ÉLÉMENT CÉRAMIQUE ET SUBSTRAT POUR UNE PARTIE ÉLECTRONIQUE
(JA) セラミック部材、セラミック部材への溝の形成方法、および電子部品用基板
要約: front page image
(EN)A ceramic member (1) having grooves (2). In the ceramic member (1), the region at least ranging from 1 µm to 10 µm in terms of normal-direction depth from the surface (21) of each groove (2) has a higher silica or yttria content than the region ranging from 60 µm to 70 µm in terms of normal-direction depth from the surface (21) of the groove (2). When that region at least ranging from 1 µm to 10 µm in terms of normal-direction depth from the surface (21) of each groove (2) is referred to as a surface layer (20), the silica or yttria content in the surface layer (20) is preferably 1.2 to 1.6 times the average content of silica or yttria in the region ranging from 60 µm to 70 µm in terms of normal-direction depth from the surface (21) of the groove (2).
(FR)L'invention concerne un élément céramique (1) muni de rainures (2). Dans l'élément céramique (1), la zone se situant au moins dans la plage de 1 µm à 10 µm en termes de profondeur dans la direction normale à partir de la surface (21) de chaque rainure (2) présente une teneur en oxyde de silicium ou d'yttrium supérieure à la région se situant dans la plage de 60 µm à 70 µm en termes de profondeur dans la direction normale à partir de la surface (21) de la rainure (2). Lorsque cette zone se situant au moins dans la plage de 1 µm à 10 µm en termes de profondeur dans la direction normale à partir de la surface(21) de chaque rainure (2) est appelée couche de surface (20), la teneur en oxyde de silicium ou d'yttrium dans la couche de surface (20) est de préférence 1,2 à 1,6 fois la teneur moyenne d'oxyde de silicium ou d'yttrium dans la zone se situant dans la plage de 60 µm à 70 µm en termes de profondeur dans la direction normale à partir de la surface (21) de la rainure (2).
(JA) 本発明は、溝2を有するセラミック部材1に関する。セラミック部材1は、溝2の表面21からの法線方向における少なくとも1μm以上10μm以下までの領域が、溝2の表面21からの法線方向の60μm以上70μm以下までの領域よりも、シリカまたはイットリアの含有率が高いものである。溝2の表面21からの法線方向における少なくとも1μm以上10μm以下までの領域を少なくとも表層20としたとき、表層20におけるシリカまたはイットリアの含有率は、溝2の表面21からの法線方向の60μm以上70μm以下までの領域でのシリカまたはイットリアの平均含有率に対して、1.2倍以上1.6倍以下であるのが好ましい。  
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)