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1. (WO2008059918) 上面反射防止膜用組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/059918    国際出願番号:    PCT/JP2007/072170
国際公開日: 22.05.2008 国際出願日: 15.11.2007
IPC:
G03F 7/11 (2006.01), G02B 1/11 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: AZ Electronic Materials (Japan) K.K. [JP/JP]; Bunkyo Green Court, 28-8, Honkomagome 2-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1130021 (JP) (AE, AG, AL, AM, AU, AZ, BA, BB, BF, BH, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CI, CM, CN, CO, CR, CU, DM, DZ, EC, EG, GA, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GT, GW, HN, HR, ID, IL, IN, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LY, MA, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, RS, RU, SC, SD, SG, SL, SM, SN, SV, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
AZ Electronic Materials USA CORP. [US/US]; 70 Meister Avenue, Somerville, New Jersey 08876 (US) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR only).
NOYA, Go [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOBAYASHI, Masakazu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
AKIYAMA, Yasushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KURAMOTO, Katsutoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NOYA, Go; (JP).
KOBAYASHI, Masakazu; (JP).
AKIYAMA, Yasushi; (JP).
KURAMOTO, Katsutoshi; (JP)
代理人: YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office Room 323, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2006-310529 16.11.2006 JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION FOR UPPER SURFACE ANTIREFLECTION FILM, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION USING THE SAME
(FR) COMPOSITION POUR FILM ANTIREFLET DE SURFACE SUPÉRIEURE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF UTILISANT CETTE COMPOSITION
(JA) 上面反射防止膜用組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
要約: front page image
(EN)This invention provides a composition for upper surface antireflection film formation, which prevents pattern failure caused by reflection in a film in an exposure process and is free from a problem of a residue in an etching process, and a method for pattern formation using the same. The composition for upper surface antireflection film formation contains fine particles having a diameter of 1 to 100 nm and a solvent. The method for pattern formation comprises forming an upper surface antireflection film using the composition for upper surface antireflection film formation. The composition and the method can realize the formation of a composite film comprising a resist film and the upper surface antireflection film.
(FR)La présente invention concerne une composition pour la formation d'un film antireflet de surface supérieure, qui permet d'empêcher un défaut de motif causé par la réflexion dans un film dans un processus d'exposition et qui est exempte de problème de formation de résidus dans un processus de gravure, ainsi qu'un procédé de formation de motif utilisant cette composition. La composition pour formation de film antireflet de surface supérieure contient de fines particules ayant un diamètre de 1 à 100 nm et un solvant. Le procédé de formation de motif consiste à former un film antireflet de surface supérieure en utilisant la composition pour formation de film antireflet de surface supérieure. La composition et le procédé peuvent permettre de former un film composite comprenant un film de réserve et le film antireflet de surface supérieure.
(JA) 本発明は、露光工程において膜内の反射によるパターン不良を防ぎ、かつエッチング工程における残渣の問題がない上面反射防止膜形成用組成物と、それを用いたパターン形成方法を提供するものである。この上面反射防止膜形成用組成物は、粒径が1~100nmである微粒子と溶媒とを含んでなるものである。また本発明によるパターン形成方法は、それを用いて上面反射防止膜を形成させることを含んでなるものである。これらにより、レジスト膜と上面反射防止膜とを含んでなる複合膜を形成させることができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)