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1. (WO2008059827) プラズマドーピング方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/059827    国際出願番号:    PCT/JP2007/071996
国際公開日: 22.05.2008 国際出願日: 13.11.2007
IPC:
H01L 21/265 (2006.01)
出願人: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SASAKI, Yuichiro; (米国のみ).
OKASHITA, Katsumi; (米国のみ).
ITO, Hiroyuki; (米国のみ).
MIZUNO, Bunji; (米国のみ)
発明者: SASAKI, Yuichiro; .
OKASHITA, Katsumi; .
ITO, Hiroyuki; .
MIZUNO, Bunji;
代理人: MAEDA, Hiroshi; Osaka-Marubeni Bldg. 5-7, Hommachi 2-chome, Chuo-ku Osaka-shi, Osaka 5410053 (JP)
優先権情報:
2006-309427 15.11.2006 JP
発明の名称: (EN) PLASMA DOPING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE DOPAGE DE PLASMA
(JA) プラズマドーピング方法
要約: front page image
(EN)An impurities region is formed on the surface of a substrate by exposing the substrate to plasma consisting of impurities-containing gas in a vacuum container. During this process, plasma doping conditions are set such that the dose amount of impurities to be introduced to the substrate in the early stage of doping is larger at one of the center and the peripheral edge of the substrate than at the other, and in the latter stage it is larger at the other than at the one.
(FR)Une région d'impuretés est formée sur la surface d'un substrat en exposant le substrat à un plasma constitué de gaz contenant des impuretés dans un réservoir sous vide. Au cours de ce procédé, des conditions de dopage de plasma sont définies de manière à ce que le dosage des impuretés devant être introduites dans le substrat lors de l'étape initiale de dopage soit supérieur soit au centre soit sur le bord périphérique du substrat par rapport à l'autre emplacement, et lors de la dernière étape soit supérieur à l'emplacement opposé au premier emplacement.
(JA) 真空容器内において不純物を含むガスからなるプラズマに基板を曝すことによって、前記基板の表面に不純物領域を形成する。このとき、前記基板に導入される前記不純物のドーズ量について、ドーピング初期においては前記基板の中央部及び周縁部のうちの一方のドーズ量が他方のドーズ量よりも大きくなり、その後、当該他方のドーズ量が当該一方のドーズ量よりも大きくなるように、プラズマドーピング条件を設定する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)