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1. (WO2008056710) セラミック焼結体とそれを用いた磁気ヘッド用基板および磁気ヘッドならびに記録媒体駆動装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/056710    国際出願番号:    PCT/JP2007/071653
国際公開日: 15.05.2008 国際出願日: 07.11.2007
IPC:
C04B 35/10 (2006.01), C04B 35/565 (2006.01), G11B 5/60 (2006.01), G11B 21/21 (2006.01)
出願人: KYOCERA CORPORATION [JP/JP]; 6 Takeda Tobadono-cho, Fushimi-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6128501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKAZAWA, Shuji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WANG, Yucong [CN/JP]; (JP) (米国のみ).
AKIYAMA, Masahide [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
GENTSU, Takuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUE, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAKAZAWA, Shuji; (JP).
WANG, Yucong; (JP).
AKIYAMA, Masahide; (JP).
GENTSU, Takuya; (JP).
SUE, Toshiyuki; (JP)
代理人: TADA, Kazuhiko; 6, Takeda Tobadono-cho Fushimi-ku, Kyoto-shi Kyoto 6128501 (JP)
優先権情報:
2006-301100 07.11.2006 JP
発明の名称: (EN) CERAMIC SINTER, MAGNETIC HEAD SUBSTRATE AND MAGNETIC HEAD USING THE CERAMIC SINTER, AND RECORDING MEDIUM DRIVE UNIT
(FR) FRITTAGE CÉRAMIQUE, SUBSTRAT DE TÊTE MAGNÉTIQUE ET TÊTE MAGNÉTIQUE UTILISANT LE FRITTAGE CÉRAMIQUE, ET UNITÉ D'ENTRAÎNEMENT DE SUPPORT D'ENREGISTREMENT
(JA) セラミック焼結体とそれを用いた磁気ヘッド用基板および磁気ヘッドならびに記録媒体駆動装置
要約: front page image
(EN)[PROBLEMS] To overcome a drawback of a conventional ceramic sinter that, due to a fact that, in a floating quantity of not more than 10 nm, an importance has become placed to surface smoothness of a floating face, in order to provide this floating face, polishing should be carried out using small diamond abrasive grains having an average particle diameter of not more than 0.1 μm, and, hence, the machinability of the conventional ceramic sinter is so poor that a magnetic head manufactured from this ceramic sinter has not satisfied a requirement for a floating quantity of not more than 10 nm. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A ceramic sintercomprises an Al2O3 crystal grain, an internal TiC crystal grain present within the Al2O3 crystal grain, and an external TiC grain other than the internal TiC crystal grain. After sintering, stress attributable to the difference in coefficient of thermal expansion remains in the Al2O3 crystal grain and the external TiC crystal grain. At the interface of the Al2O3 crystal grain and the external TiC crystal grain, mutually pulled state occurs. In this case, upon machining, in addition to shear force caused by this machining, the residual stress causes easy progress of microcracks at the interface contributing to improved machinability.
(FR)L'invention entend proposer de résoudre un inconvénient d'un frittage céramique conventionnel qui, compte tenu du fait que, dans une quantité flottante ne dépassant pas 10 nm, l'accent est mis sur le lissé de surface d'une face flottante, afin de constituer cette face flottante, il faudrait effectuer un polissage en utilisant de petits grains abrasifs de diamant possédant un diamètre particulaire moyen ne dépassant pas 0,1 &mgr;m, et, ainsi, l'usinabilité du frittage céramique conventionnel est si médiocre qu'une tête magnétique fabriquée à partir de ce frittage céramique ne répond pas à l'exigence d'une quantité flottante ne dépassant pas 10 nm. L'invention concerne alors un frittage céramique comprenant un grain de cristal Al2O3, un grain de cristal TiC interne présent dans le grain de cristal Al2O3, et un grain TiC externe autre que le grain de cristal TiC interne. Après frittage, la contrainte imputable à la différence de coefficient d'expansion thermique reste dans le grain de cristal Al2O3 et le grain de cristal TiC externe. A l'interface du grain de cristal Al2O3 et du grain de cristal TiC externe, on observe une traction réciproque. Dans ce cas, lors de l'usinage, outre la force de cisaillement provoquée par cet usinage, la contrainte résiduelle provoque le développement sans problèmes de microfissures au niveau de l'interface ce qui contribue à une usinabilité améliorée.
(JA) 【課題】 浮上量が10nm以下の範囲では浮上面の表面平滑性が重視されるようになり、この浮上面を得るには、平均粒径0.1μm以下の小さなダイヤモンド砥粒を用いて研磨しなければならないため、従来のセラミック焼結体では機械加工性が悪く、このセラミック焼結体から製作される磁気ヘッドを10nm以下の浮上量に対応させることはできなかった。 【解決手段】 Al結晶粒子と、該Al結晶粒子の内部に存在する内部TiC結晶粒子と、前記内部TiC結晶粒子以外の外部TiC粒子とを有するものである。Al結晶粒子および外部TiC結晶粒子には、焼結後に、熱膨張係数の差に起因する応力がそれぞれ残り、Al結晶粒子と外部TiC結晶粒子との界面では互いに引っ張り合った状態となり、機械加工を施すと、この機械加工による剪断力に加え、残った応力により、界面に発生したマイクロクラックは容易に進展するので機械加工性が良好になる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)