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1. (WO2008056671) 水酸化テトラアルキルアンモニウム含有現像廃液の中和方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/056671    国際出願番号:    PCT/JP2007/071567
国際公開日: 15.05.2008 国際出願日: 06.11.2007
IPC:
G03F 7/30 (2006.01), C02F 1/66 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: Tokuyama Corporation [JP/JP]; 1-1, Mikage-cho, Shunan-shi, Yamaguchi 7458648 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAMASHITA, Yoshifumi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OOKIDO, Hajime [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAMOTO, Tatsuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAMASHITA, Yoshifumi; (JP).
OOKIDO, Hajime; (JP).
NAKAMOTO, Tatsuya; (JP)
代理人: MAEDA, Hitoshi; MAEDA & SUZUKI, 2F, Tokyodo Jinboucho 3rd Bldg., 1-17, Kandajinboucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010051 (JP)
優先権情報:
2006-303893 09.11.2006 JP
発明の名称: (EN) METHOD OF NEUTRALIZING DEVELOPER WASTE LIQUID CONTAINING TETRAALKYLAMMONIUM HYDROXIDE
(FR) PROCÉDÉ DE NEUTRALISATION D'UN RÉSIDU LIQUIDE DE RÉVÉLATEUR CONTENANT DE L'HYDROXYDE DE TÉTRAALKYLAMMONIUM
(JA) 水酸化テトラアルキルアンモニウム含有現像廃液の中和方法
要約: front page image
(EN)A method of neutralizing a developer waste liquid containing a tetraalkylammonium hydroxide wherein an organic matter derived from photoresist is dissolved through reaction with carbon dioxide gas, in which clogging by intra-column resist precipitation at neutralization can be effectively prevented and in which resist precipitated at neutralization ensures a high filterability and can be effectively removed. The method of neutralizing a developer waste liquid containing a tetraalkylammonium hydroxide comprises adding carbon dioxide gas to a developer waste liquid containing tetraalkylammonium hydroxide of 13 or higher pH value in which an organic matter derived from photoresist is dissolved to thereby carry out neutralization to a pH value of 11.5 or below, wherein the rate of carbon dioxide gas added from the time at which the pH of the developer waste liquid is 13 to the time at which the pH reaches 12 is 0.15 L/hr or less per mol of tetraalkylammonium hydroxide contained in the developer waste liquid at the time of pH 13.
(FR)La présente invention concerne un procédé de neutralisation d'un résidu liquide de révélateur contenant de l'hydroxyde de tétraalkylammonium dans lequel une matière organique dérivée d'une photorésine est dissoute par une réaction avec du dioxyde de carbone gazeux, l'engorgement par la précipitation de résine dans la colonne au moment de la neutralisation pouvant être efficacement empêché et ladite résine précipitée au moment de la neutralisation assurant une haute filtrabilité et pouvant être facilement éliminée. Le procédé de neutralisation d'un résidu liquide de révélateur contenant de l'hydroxyde de tétraalkylammonium consiste à ajouter du dioxyde de carbone gazeux à un résidu liquide de révélateur contenant de l'hydroxyde de tétraalkylammonium ayant une valeur de pH supérieure ou égale à 13, ladite matière organique dérivée de la photorésine étant dissoute pour assurer la neutralisation jusqu'à une valeur de pH inférieure ou égale à 11,5, la vitesse à laquelle le dioxyde de carbone gazeux est ajouté depuis le moment où le pH du résidu liquide de révélateur est 13 jusqu'au moment où le pH atteint 12, est de 0,15 L/h ou moins par mole d'hydroxyde de tétraalkylammonium contenu dans le résidu liquide de révélateur au moment où le pH est égal à 13.
(JA) 本発明は、フォトレジスト由来の有機物が溶解した水酸化テトラアルキルアンモニウム含有現像廃液を、炭酸ガスを反応させて中和する方法において、中和時に塔内でのレジストの析出による閉塞を効果的に防止し、中和時に析出するレジストのろ過性が高く効率的に除去可能な中和方法を提供することを目的としている。かかる目的を達成する本発明の中和方法においては、フォトレジスト由来の有機物が溶解したpHが13以上の水酸化テトラアルキルアンモニウム含有現像廃液に対して、炭酸ガスを加えることによりpHが11.5以下になるまで中和する水酸化テトラアルキルアンモニウム含有現像廃液の中和方法において、上記現像廃液のpHが13の時点から12に到達する時点までの炭酸ガスの添加量を、pHが13の時点における現像廃液中の水酸化テトラアルキルアンモニウム1モルあたり、0.15L/hr以下として行う。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)