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1. (WO2008056437) 液浸リソグラフィー用共重合体及び組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/056437    国際出願番号:    PCT/JP2007/001183
国際公開日: 15.05.2008 国際出願日: 30.10.2007
IPC:
C08F 220/26 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 25-10, Hatchobori 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048502 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAMAGISHI, Takanori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OIKAWA, Tomo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OKADA, Takayoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAMAGISHI, Takanori; (JP).
OIKAWA, Tomo; (JP).
OKADA, Takayoshi; (JP)
代理人: THE PATENT CORPORATE BODY ARUGA PATENT OFFICE; Kyodo Bldg. 3-6, Nihonbashiningyocho 1-chome Chuo-ku, Tokyo 103-0013 (JP)
優先権情報:
2006-301462 07.11.2006 JP
発明の名称: (EN) COPOLYMER FOR IMMERSION LITHOGRAPHY AND COMPOSITIONS
(FR) COPOLYMÈRE POUR LITHOGRAPHIE EN IMMERSION ET COMPOSITIONS
(JA) 液浸リソグラフィー用共重合体及び組成物
要約: front page image
(EN)A copolymer capable of giving surface characteristics suitable for immersion lithography which can prevent not only pattern defects such as water mark but also sensitivity or pattern shape abnormalities caused by the dissolution of additives such as radiation-sensitive acid generator; and compositions containing the copolymer. A copolymer for immersion lithography which comprises as the essential constituents repeating units (A) capable of being deblocked by the action of an acid and thus forming alkali-soluble groups and repeating units (B) having lactone structure, characterized in that when a water droplet formed by dropping 15&mgr;l of pure water onto a thin film made by applying a solution of the copolymer in propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter often referred to as “PGMEA”) to a wafer and heating the resulting coating begins to shift its position, the inclination of the wafer is 35° or below or the contact angle at the uppermost point of the water droplet is 64° or above.
(FR)L'invention concerne un copolymère susceptible de donner des caractéristiques de surface adaptées à la lithographie en immersion qui permettent d'éviter les défauts de motifs tels que le brunissage, mais également les anomalies de la sensibilité ou de la forme du motif causées par la dissolution d'additifs tels qu'un générateur d'acide sensible aux rayonnements ; et des compositions contenant le copolymère. L'invention concerne également un copolymère pour lithographie en immersion qui contient, en tant que ses constituants essentiels, des unités répétitives (A) susceptibles d'être débloquées par l'action d'un acide et constituant ainsi des groupes solubles en milieu alcalin et des unités répétitives (B) présentant une structure lactone, caractérisé en ce que, lorsqu'une gouttelette d'eau formée en laissant tomber 15 &mgr;l d'eau pure sur un film fin constitué en appliquant une solution du copolymère dans de l'acétate d'éther monométhylique de propylène glycol (ici souvent désigné sous l'appellation « PGMEA ») sur une tranche et en faisant chauffer le revêtement commence à modifier sa position, l'inclination de la tranche est inférieure ou égale à 35 ° ou l'angle de contact au point le plus élevé de la gouttelette d'eau est supérieur ou égal à 64 °.
(JA) ウオーターマーク等のパターン欠陥や、感放射線性酸発生剤等の添加物の溶出による感度やパターン形状の異常等を抑えることができる、液浸リソグラフィーに好適な表面特性を与える共重合体と、該共重合体を含む組成物を提供する。  少なくとも、酸の作用で保護基が解離してアルカリ可溶性基を生ずる繰り返し単位(A)と、ラクトン構造を有する繰り返し単位(B)とを含む共重合体であって、該共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」と言うことがある。)溶液をウエハーに塗布し、加熱して形成した薄膜に、純水15μlを滴下し、水滴が移動を開始するときのウエハーの傾きが35°以下、又は水滴が移動を開始するときの水滴最上部の接触角が64°以上であることを特徴とする液浸リソグラフィー用共重合体。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)