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1. (WO2008050475) 研磨ヘッド及び研磨装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/050475    国際出願番号:    PCT/JP2007/001137
国際公開日: 02.05.2008 国際出願日: 18.10.2007
IPC:
B24B 37/005 (2012.01), B24B 37/04 (2012.01), B24B 37/30 (2012.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. [JP/JP]; 6-2, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP) (米国を除く全ての指定国).
Fujikoshi Machinery Corp. [JP/JP]; 1650, Kiyono, Matsushiro-machi, Nagano-shi, Nagano 3811233 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MASUMURA, Hisashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KITAGAWA, Koji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MORITA, Kouji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KISHIDA, Hiromi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ARAKAWA, Satoru [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MASUMURA, Hisashi; (JP).
KITAGAWA, Koji; (JP).
MORITA, Kouji; (JP).
KISHIDA, Hiromi; (JP).
ARAKAWA, Satoru; (JP)
代理人: YOSHIMIYA, Mikio; 1st Shitaya Bldg. 8F 6-11, Ueno 7-chome Taito-ku, Tokyo 1100005 (JP)
優先権情報:
2006-293206 27.10.2006 JP
発明の名称: (EN) POLISHING HEAD AND POLISHING APPARATUS
(FR) TÊTE DE POLISSAGE ET APPAREIL DE POLISSAGE
(JA) 研磨ヘッド及び研磨装置
要約: front page image
(EN)A polishing head is provided with an annular rigid ring (12); a rubber film (13) bonded on the rigid ring with uniform tensile strength; a middle plate (14) connected to the rigid ring to form a space with the rubber film and the rigid ring; and an annular template (16), which is concentrically arranged with the rigid ring at the periphery of a lower surface section of the rubber film and has an outer diameter larger than the inner diameter of the rigid ring. Pressure in the space can be changed by a pressure adjusting mechanism (17). The polishing head holds the rear surface of a work (W) on the lower surface section of the rubber film and polishes the surface of the work by bringing the surface of the work slidably into contact with a polishing cloth adhered on a platen. The inner diameter of the template is smaller than that of the rigid ring, and a ratio of a difference between the inner diameter of the rigid ring and that of the template to a difference between the inner diameter and the outer diameter of the template is 26% or more but not more than 45%. Thus, the polishing head or the like is provided for stably obtaining constant planarity.
(FR)L'invention concerne une tête de polissage pourvue d'une bague annulaire rigide (12); d'un film (13) en caoutchouc collé sur la bague rigide avec une résistance uniforme à la traction; d'une plaque médiane (14) reliée à la bague rigide pour former un espace avec le film en caoutchouc et la bague rigide; et d'un gabarit annulaire (16), disposé de façon concentrique avec la bague rigide à la périphérie d'une partie de surface inférieure du film en caoutchouc et présentant un diamètre extérieur supérieur au diamètre intérieur de la bague rigide. La pression dans l'espace peut être modifiée à l'aide d'un mécanisme (17) de réglage de la pression. La tête de polissage maintient la surface arrière d'une pièce de travail (W) sur la partie de surface inférieure du film en caoutchouc et polit la surface de la pièce de travail en l'amenant en contact glissant avec un tissu de polissage adhérant à une platine. Le diamètre intérieur du gabarit est inférieur à celui de la bague rigide, et un rapport de la différence entre le diamètre intérieur de la bague rigide et celui du gabarit à une différence entre le diamètre intérieur et le diamètre extérieur du gabarit est de 26% minimum et de 45% maximum. Ainsi, la tête de polissage ou similaire garantit de façon stable une planéité constante.
(JA) 本発明は、環状の剛性リング(12)と、該剛性リングに均一の張力で接着されたラバー膜(13)と、前記剛性リングに結合され、前記ラバー膜と前記剛性リングとともに空間部を形成する中板(14)と、前記ラバー膜の下面部の周辺部に前記剛性リングと同心に設けられ、前記剛性リングの内径よりも外径が大きい環状のテンプレート(16)とを具備し、圧力調整機構(17)で前記空間部の圧力を変化させることができるものであり、前記ラバー膜の下面部にワーク(W)の裏面を保持し、該ワークの表面を定盤上に貼り付けた研磨布に摺接させて研磨する研磨ヘッドにおいて、前記剛性リングの内径よりも前記テンプレートの内径が小さく、該剛性リングとテンプレートとの内径差と、前記テンプレートの内径と外径との差の比が26%以上45%以下である研磨ヘッドである。これにより、安定して一定の平坦性が得られる研磨ヘッド等を提供することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)