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1. (WO2008032752) 基板製造装置

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/032752    国際出願番号:    PCT/JP2007/067767
国際公開日: 20.03.2008 国際出願日: 12.09.2007
C30B 29/06 (2006.01), C30B 11/00 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YASUTAKE, Kenji; (米国のみ)
発明者: YASUTAKE, Kenji;
代理人: SAIKYO, Keiichiro; Shikishima Building, 2-6, Bingomachi 3-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410051 (JP)
2006-247331 12.09.2006 JP
(JA) 基板製造装置
要約: front page image
(EN)Substrate production equipment in which oxygen concentration in a chamber can be reduced through a simple arrangement. A crucible (2) for storing a melt (11) produced by thermally melting the material of a substrate (12) is provided in a containing space (9) formed by a chamber (3). A buffer chamber (6) forming a buffer space (25) communicates with the containing space (9), and is connected with a communication hole (17) which can pass a cooling body, an exhaust hole (34) for exhausting a gas, and the outer space, and provided with a conveyance hole (23) which can pass the cooling body. The buffer space (25) communicates with the communication hole (17), the exhaust hole (34) and the conveyance hole (23). The conveyance hole (23) can be opened/closed by means of a shutter (33) of an opening/closing means (24), and it is opened when an underlying plate (4) passes. The containing space (9) is supplied with an inert gas by a gas supply means (15). A gas jet means (35) jets the inert gas toward the cooling body when a conveyance means (7) conveys the underlying plate (4) in the buffer space (25).
(FR)La présente invention concerne un équipement de production de substrat dans lequel la concentration d'oxygène dans une chambre peut être réduite par le biais d'un simple dispositif. Un creuset (2) pour stocker une coulée (11) produite en faisant fondre thermiquement le matériau d'un substrat (12) est prévu dans un espace de logement (9) formé par une chambre (3). Une chambre tampon (6) formant un espace tampon (25) communique avec l'espace de logement (9), et est reliée à un orifice de communication (17) qui peut faire passer un corps de refroidissement, un orifice d'échappement (34) pour laisser un gaz s'échapper, et l'espace externe, et est munie d'un orifice de transport (23) qui peut faire passer le corps de refroidissement. L'espace tampon (25) communique avec l'orifice de communication (17), l'orifice d'échappement (34) et l'orifice de transport (23). L'orifice de transport (23) peut être ouvert/fermé au moyen d'un obturateur (33) d'un moyen d'ouverture/fermeture (24), et est ouvert lorsque passe une plaque sous-jacente (4). L'espace de logement (9) est alimenté avec un gaz inerte par un moyen d'alimentation en gaz (15). Un moyen de jet de gaz (35) projette le gaz inerte en direction du corps de refroidissement lorsqu'un moyen de transport (7) transporte la plaque sous-jacente (4) dans l'espace tampon (25).
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)