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1. (WO2008032714) 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の制御方法並びに記憶媒体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/032714    国際出願番号:    PCT/JP2007/067670
国際公開日: 20.03.2008 国際出願日: 11.09.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/30 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HAYASHIDA, Yasushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HARA, Yoshitaka [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KANEKO, Tomohiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HAYASHIDA, Yasushi; (JP).
HARA, Yoshitaka; (JP).
KANEKO, Tomohiro; (JP)
代理人: YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office Room 323, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2006-247084 12.09.2006 JP
発明の名称: (EN) COATING/DEVELOPING APPARATUS, COATING/DEVELOPING APPARATUS CONTROL METHOD AND STORAGE MEDIUM
(FR) APPAREIL DE REVÊTEMENT/DÉVELOPPEMENT, PROCÉDÉ DE COMMANDE D'APPAREIL DE REVÊTEMENT/DÉVELOPPEMENT ET SUPPORT DE STOCKAGE
(JA) 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の制御方法並びに記憶媒体
要約: front page image
(EN)A time that when a substrate wastefully stays at an inspection module is reduced, and the throughput of the coating/developing apparatus is improved. A coating/developing apparatus is provided with a plurality of inspection modules having different times required for inspecting substrates, which have been processed at a process station, at an inspection station for receiving the substrate and transferring them to a carrier station; a buffer unit for having the substrate temporarily stay; and a substrate transfer means of which operation is controlled by a control section. While the inspection module processes the substrate, a subsequent substrate to be inspected by the inspection module is transferred to the buffer unit by the substrate transfer means to stay at the buffer unit. Thus, the stay of the substrate at the inspection module is suppressed and the throughput can be improved.
(FR)La présente invention permet de réduire le temps de séjour inutile d'un substrat en un module d'inspection et d'améliorer le débit de l'appareil de revêtement/développement. L'appareil de revêtement/développement selon l'invention comprend une pluralité de modules d'inspection avec des temps requis différents pour inspecter des substrats qui ont été traités en une station de traitement, en une station d'inspection conçue pour recevoir les substrats et les transférer vers une station de transport ; une unité tampon conçue pour y faire séjourner le substrat temporairement ; et un moyen de transfert de substrat dont le fonctionnement est commandé par une section de commande. Tandis que le module d'inspection traite le substrat, un substrat suivant devant être inspecté par le module d'inspection est transféré vers l'unité tampon par le moyen de transfert de substrat, pour séjourner dans l'unité tampon. Ainsi, le séjour du substrat dans le module d'inspection est supprimé et le débit peut être amélioré.
(JA) 検査モジュールにて基板が無駄に滞在する時間を削減し、これにより塗布、現像装置のスループットを向上することのできる技術を提供すること。  処理ステーションで処理を受けた基板を、キャリアステーションに受け渡す検査ステーションにおいて、検査に要する時間が互いに異なる複数の検査モジュールと、基板を一時的に滞留させるバッファユニットと、制御部によりその動作が制御される基板搬送手段が設けられ、検査モジュールが基板の処理を行う間、後続の、その検査モジュールによる検査対象となっている基板は、前記基板搬送手段によりバッファユニットに搬送され、滞留されることで、検査モジュールにおける基板の滞留を抑え、スループットの向上を図ることができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)