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1. (WO2008029884) クリーニング用部材、クリーニング方法、並びにデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/029884    国際出願番号:    PCT/JP2007/067426
国際公開日: 13.03.2008 国際出願日: 06.09.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIBAZAKI, Yuichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SHIBAZAKI, Yuichi; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2006-244271 08.09.2006 JP
発明の名称: (EN) CLEANING MEMBER, CLEANING METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) クリーニング用部材、クリーニング方法、並びにデバイス製造方法
要約: front page image
(EN)A cleaning member is smaller than an exposing substrate to be irradiated with exposure light, and is held by a substrate holding member to clean at least a part of the substrate holding member which is holding the rear surface of the exposing substrate.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de nettoyage qui est plus petit qu'un substrat d'exposition à exposer à une lumière d'exposition et qui est maintenu par un support de substrat en vue de nettoyer une partie au moins du support de substrat soutenant la surface arrière du substrat d'exposition.
(JA) クリーニング用部材は、露光光が照射される露光用基板よりも小さく、露光用基板の裏面を保持する基板保持部材の少なくとも一部をクリーニングするために基板保持部材に保持される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)