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1. (WO2008029591) エバネッセント波励起蛍光観察における背景光低減方法及び部材
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/029591    国際出願番号:    PCT/JP2007/065708
国際公開日: 13.03.2008 国際出願日: 10.08.2007
IPC:
G01N 21/64 (2006.01)
出願人: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 3-1, Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008921 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HIRABAYASHI, Jun [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
UCHIYAMA, Noboru [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HIRABAYASHI, Jun; (JP).
UCHIYAMA, Noboru; (JP)
優先権情報:
2006-242020 06.09.2006 JP
発明の名称: (EN) BACKGROUD LIGHT REDUCING METHOD IN EVANSCENT WAVE EXCITING FLUORESCENT OSERVATION, AND COMPONENT THEREFOR
(FR) PROCÉDÉ DE RÉDUCTION DE LA LUMIÈRE DE FOND LORS DE L'OBSERVATION DE FLUORESCENCE AVEC EXCITATION PAR ONDE ÉVANESCENTE, ET COMPOSANT POUR CELUI-CI
(JA) エバネッセント波励起蛍光観察における背景光低減方法及び部材
要約: front page image
(EN)In an evanescent wave exciting fluorescent observation, stray light arriving at a probe solution layer on an upper layer of a fixing region of molecules under examination in a reaction chamber is effectively absorbed by disposing a stray light absorptive region on a waveguide substrate, so that the stay light is suppressed to enter into the reaction chamber and the scattering stray light is suppressed to occur at an edge surface of the waveguide substrate made by applying a laser cutting process to the edge surface of the waveguide substrate on which light is incident. With the structure, critical background fluorescence at the evanescent wave exciting fluorescent observation is significantly reduced.
(FR)Lors de l'observation de fluorescence avec excitation par onde évanescente, la lumière parasite arrivant sur une couche de solution de sonde d'une couche supérieure d'une région de fixation de molécules en cours d'examen dans une chambre de réaction est efficacement absorbée par disposition d'une région d'absorption de la lumière parasite sur un substrat de guide d'ondes, de manière à ce que la lumière parasite ne puisse pas entrer dans la chambre de réaction et que la lumière parasite se diffusant ne puisse pas survenir au niveau d'une surface latérale du substrat de guide d'ondes formée par application d'un procédé de découpe laser à la surface latérale du substrat de guide d'ondes sur lequel la lumière est incidente. La structure permet de réduire considérablement la fluorescence de fond critique, lors de l'observation de fluorescence avec excitation par onde évanescente.
(JA) エバネッセント波励起蛍光観察において、導波路基板上に迷光吸収領域を配置することにより、反応槽内の被験分子固定領域上層のプローブ溶液層に到達する迷光を効率的に吸収させて、反応槽内への迷光の侵入を抑制するとともに、導波路基板への入射光の入射端面をレーザーカッティング加工することで、端面における散乱迷光の発生を抑制させる。これらにより、エバネッセント波励起蛍光観察時に問題となる背景蛍光を大幅に低減させる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)