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1. (WO2008029539) 液晶装置の製造方法、スペーサ配置用液状物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/029539    国際出願番号:    PCT/JP2007/058934
国際公開日: 13.03.2008 国際出願日: 25.04.2007
IPC:
G02F 1/1339 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SATOH, Hitoshi; (米国のみ)
発明者: SATOH, Hitoshi;
代理人: GORO, Kazuo; AKATSUKI UNION PATENT FIRM 5th Floor, Nittochi Nagoya Bldg. 1-1, Sakae 2-chome Naka-ku, Nagoya-shi Aichi 4600008 (JP)
優先権情報:
2006-241340 06.09.2006 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DEVICE, AND LIQUID MATERIAL FOR SPACER PLACEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF À CRISTAUX LIQUIDES ET SUBSTANCE LIQUIDE DESTINÉE À PLACER UN ESPACEUR
(JA) 液晶装置の製造方法、スペーサ配置用液状物
要約: front page image
(EN)This invention provides a method for manufacturing a liquid crystal device, comprising a spacer placement step of disposing elastic spacers (60, 61) on a substrate (10). The method is characterized in that the spacer placement step comprises the step of forming a light shielding spacer placement level difference part (70) on a substrate (10) and the step of coating a liquid material containing first and second spacer groups on the spacer placement level difference part (70), and, in the liquid material, the first spacer group comprises spacers (60) which can regulate the space of the substrate (10) on the step in the spacer placement level difference part (70), while the second spacer group comprises spacers (61) which can regulate the space of the substrate (10) in the lower part in the spacer placement level difference part(70), and, further, the second spacer group is contained in an amount of 12.5% to 50% based on the first spacer group.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif à cristaux liquides, qui comprend une étape de placement d'espaceur consistant à disposer des espaceurs élastiques (60, 61) sur un substrat. Le procédé se caractérise en ce que l'étape de placement d'espaceur comprend une étape consistant à former sur un substrat (10) une partie (70) de différence de niveau de placement de l'espaceur protégeant de la lumière et une étape consistant à revêtir une substance liquide contenant un premier et un second groupes d'espaceurs sur la partie (70) de différence de niveau de placement de l'espaceur. Dans la substance liquide, le premier groupe d'espaceurs comprend des espaceurs (60) capables de réguler l'espace du substrat (10) dans la partie (70) de différence de niveau de placement de l'espaceur, tandis que le second groupe d'espaceurs comprend des espaceurs (61) capables de réguler l'espace du substrat (10) dans la partie inférieure de la partie (70) de différence de niveau de placement. En outre, le second groupe d'espaceurs est présent en une quantité comprise entre 12,5 % et 50 % sur la base du premier groupe d'espaceurs.
(JA)本発明は、基板10に対して弾性を有するスペーサ60,61を配置する工程を備え、当該スペーサ配置工程は、基板10上に遮光性のスペーサ配置用段差部70を形成する工程と、スペーサ配置用段差部上に対して第1スペーサ群と第2スペーサ群とを含む液状物を塗布する工程とを含み、前記液状物において、第1スペーサ群が、スペーサ配置用段差部70の段上で基板間隔を規制可能なスペーサ60からなり、第2スペーサ群が、スペーサ配置用段差部70の段下で基板間隔を規制可能なスペーサ61からなるとともに、第2スペーサ群が第1スペーサ群に対して12.5%~50%の割合で含有されてなることを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)