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1. WO2007132724 - 反応性カルボキシレート化合物、それを用いた硬化型樹脂組成物、およびその用途

公開番号 WO/2007/132724
公開日 22.11.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/059644
国際出願日 10.05.2007
IPC
C08G 59/17 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
591分子中に1個より多くのエポキシ基を含有する重縮合物;エポキシ重縮合物と単官能性低分子量化合物との反応によって得られる高分子化合物;エポキシ基と反応する硬化剤または触媒を用いて1分子中に1個より多くのエポキシ基を含有する化合物を重合することにより得られる高分子化合物
14化学的後処理により変性された重縮合物
16モノカルボン酸によるもの,またはその酸無水物,ハライドまたは低分子量エステルによるもの
17アクリル酸またはメタクリル酸によるもの
C08F 299/02 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
299非高分子量単量体の不存在下に,炭素-炭素不飽和結合のみが関与する重合体相互の反応によって得られる高分子化合物
02不飽和重縮合物からのもの
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
G03F 7/027 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
027炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
CPC
C08F 299/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
299Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
02from unsaturated polycondensates
C08G 59/1466
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
59Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule
14Polycondensates modified by chemical after-treatment
1433with organic low-molecular-weight compounds
1438containing oxygen
1455Monocarboxylic acids, anhydrides, halides, or low-molecular-weight esters thereof
1461Unsaturated monoacids
1466Acrylic or methacrylic acids
G03F 7/032
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
032with binders
G03F 7/038
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
出願人
  • 日本化薬株式会社 NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 栗橋 透 KURIHASHI, Toru [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 山本 和義 YAMAMOTO, Kazuyoshi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 中西 政隆 NAKANISHI, Masataka [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 栗橋 透 KURIHASHI, Toru
  • 山本 和義 YAMAMOTO, Kazuyoshi
  • 中西 政隆 NAKANISHI, Masataka
代理人
  • 川口 義雄 KAWAGUCHI, Yoshio
優先権情報
2006-13282611.05.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) REACTIVE CARBOXYLATE COMPOUND, CURABLE RESIN COMPOSITION USING THE SAME, AND USE THEREOF
(FR) COMPOSÉ CARBOXYLATE RÉACTIF, COMPOSITION DE RÉSINE DURCISSABLE UTILISANT CELUI-CI ET UTILISATION DE CEUX-CI
(JA) 反応性カルボキシレート化合物、それを用いた硬化型樹脂組成物、およびその用途
要約
(EN)
Disclosed is a material which is excellent in toughness, heat resistance and electrical characteristics, while having high thermal conductivity. Specifically disclosed is a reactive carboxylate compound (A) obtained by reacting an epoxy resin (a) with a compound (b) having one or more polymerizable ethylenically unsaturated groups and one or more carboxyl groups in a molecule. The epoxy resin (a) is characterized in that it has structural units represented by the formulae (I) and (II) below, the averaged sum of the repeating units represented by formulae (I) and (II) is 1.1-20, and the value obtained by dividing the number of the repeating units represented by the formula (I) by the number of the repeating units represented by the formula (II) is not less than 0.5 but not more than 50. Also disclosed is a reactive polycarboxylic acid compound (B) obtained by reacting the compound (A) with a polybasic acid anhydride (c). (I) (II)
(FR)
L'invention concerne une matière qui est excellente en termes de solidité, de résistance à la chaleur et de caractéristiques électriques, tout en ayant une conductivité thermique élevée. L'invention concerne précisément un composé carboxylate réactif (A) obtenu en faisant réagir une résine époxyde (a) avec un composé (b) présentant un ou plusieurs groupes polymérisables à insaturation éthylénique et un ou plusieurs groupes carboxyles dans une molécule. La résine époxyde (a) est caractérisée en ce qu'elle présente des unités de structure représentées par les formules (I) et (II) ci-dessous, la somme moyenne des motifs récurrents représentées par les formules (I) et (II) étant de 1,1-20 et la valeur obtenue en divisant le nombre des motifs récurrents représentés par la formule (I) par le nombre des motifs récurrents représentés par la formule (II) étant supérieure ou égale à 0,5 et inférieure ou égale à 50. L'invention concerne également un composé acide polycarboxylique réactif (B) obtenu en faisant réagir le composé (A) avec un anhydride d'un acide polybasique (c). (I) (II)
(JA)
【課題】強靭性、耐熱性、電気特性に優れ、熱伝導性の高い材料を提供する。 【解決手段】下記式(I)、(II)で表される構造単位を共に有し、式(I)と式(II)の繰り返し数の総和の平均値が1.1~20であり、式(I)の繰り返し数÷式(II)の繰り返し数で示される値が0.5以上50以下であることを特徴とするエポキシ樹脂(a)と、分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(b)を反応せしめて得られる反応性カルボキシレート化合物(A)、さらに(A)に多塩基酸無水物(c)を反応せしめて得られる反応性ポリカルボン酸化合物(B)。
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