処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

出願の表示

1. WO2007129442 - 露光装置

公開番号 WO/2007/129442
公開日 15.11.2007
国際出願番号 PCT/JP2007/000383
国際出願日 10.04.2007
IPC
H01L 21/027 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
CPC
G03F 7/70841
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals, windows for passing light in- and out of apparatus
70841Constructional issues related to vacuum environment
G03F 7/70858
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
出願人
  • 株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 河田真太郎 KAWATA, Shintaro [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 河田真太郎 KAWATA, Shintaro
代理人
  • 古谷史旺 FURUYA, Fumio
優先権情報
2006-12074325.04.2006JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) EXPOSURE APPARATUS
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION
(JA) 露光装置
要約
(EN)
An exposure apparatus has a chamber, a dry pump, an exhaust path, and an infrared ray shielding section. The chamber receives components forming the exposure apparatus. The dry pump discharges gas in the chamber. The exhaust path connects the chamber and the dry pump. The infrared ray shielding section is formed at least either at an inlet section of the exhaust path in the chamber or in the exhaust path and prevents the entry of infrared rays from the dry pump to the chamber.
(FR)
Appareil d'exposition comportant une chambre, une pompe sèche, un passage d'échappement et une section de protection des rayons infrarouges. La chambre reçoit des composants formant l'appareil d'exposition. La pompe sèche refoule du gaz dans la chambre. Le passage d'échappement relie la chambre à la pompe sèche. La section de protection des rayons infrarouges est formée au moins au niveau d'un tronçon d'entrée du passage d'échappement dans la chambre ou dans le passage d'échappement et empêche l'entrée de rayons infrarouges de la pompe sèche dans la chambre.
(JA)
 露光装置は、チャンバと、ドライポンプと、排気路と、赤外線遮蔽部とを備える。チャンバは、露光装置を構成するコンポーネントを収容する。ドライポンプは、チャンバ内の気体を排気する。排気路は、チャンバとドライポンプとを接続する。赤外線遮蔽部は、チャンバ内の排気路の入口部および排気路内の少なくとも一方に形成され、ドライポンプからチャンバへの赤外線の入射を妨げる。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報