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1. (WO2007119840) 回折光学素子、および該素子を備えた露光装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/119840    国際出願番号:    PCT/JP2007/058227
国際公開日: 25.10.2007 国際出願日: 10.04.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G02B 5/18 (2006.01), G02B 5/32 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Ichigaya-Kagacho 1-Chome, Shinjuku-Ku, Tokyo 1628001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TOYAMA, Nobuhito [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HORIGUCHI, Ryuji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TOYAMA, Nobuhito; (JP).
HORIGUCHI, Ryuji; (JP)
代理人: NIRASAWA, Hiroshi; AZUSA PATENT OFFICE Ueno-Suzuki Bldg. 7th Floor 16-3, Ueno 3-Chome Taito-Ku, Tokyo 1100005 (JP)
優先権情報:
2006-109723 12.04.2006 JP
発明の名称: (EN) DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT, AND ALIGNER EQUIPPED WITH THAT ELEMENT
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE DE DIFFRACTION, ET ALIGNEUR ÉQUIPÉ D'UN TEL ÉLÉMENT
(JA) 回折光学素子、および該素子を備えた露光装置
要約: front page image
(EN)A pupil filter for use in the illumination optical system such as an aligner for semiconductor is provided in which exposure efficiency of semiconductor is enhanced by preventing the quantity of illumination light passing the pupil filter from decreasing, the load is reduced when correction by light proximity effect is carried out, dimensions of a pattern formed on a wafer are not varied by mask pattern pitch, and a stabilized high resolution optical image is obtained. A diffraction optical element for forming the pupil filter employed in the illumination optical system of an aligner for irradiating a mask with light from a light source through the illumination optical system, and projection exposing the pattern on the mask onto a substrate to be exposed through a projection optical system, characterized in that the pupil filter formed by the diffraction optical element is a double pole pupil equipped with two light transmitting portions (11), the two light transmitting portions (11) each has a sectoral profile symmetrical over a predetermined distance from the center of the pupil filter, a low light transmittance region (12) exists between the two light transmitting portions (11), and the outside of the two light transmitting portions (11) and the low light transmittance region (12) is a shading portion (13).
(FR)L'invention concerne un filtre de pupille conçu pour être utilisé dans un système optique d'éclairage, comme un aligneur pour semi-conducteur, avec lequel l'efficacité d'exposition de semi-conducteur est améliorée en empêchant la quantité de lumière d'éclairage passant par le filtre de pupille de diminuer, la charge est réduite lors de l'exécution de la correction par l'effet de proximité de lumière, les dimensions d'un motif tracé sur une plaquette ne varient pas d'un pas de motif de masque, et qui permet d'obtenir une image optique à haute résolution stabilisée est obtenue. Un élément optique de diffraction servant à réaliser le filtre de pupille employé dans le système optique d'éclairage d'un aligneur servant à irradier un masque avec de la lumière depuis une source de lumière à travers le système optique d'éclairage, et à exposer par projection le motif sur le masque sur un substrat à exposer à travers un système optique de projection, est caractérisé en ce que le filtre de pupille obtenu par l'élément optique de diffraction est une pupille à double pôle comportant deux parties de transmission de lumière (11), les deux parties de transmission de lumière (11) comportent chacune un profil de secteur symétrique sur une distance prédéterminée depuis le centre de filtre de pupille, une zone à faible facteur de transmission (12) est située entre les deux parties de transmission de lumière (11), et l'extérieur des deux parties de transmission de lumière (11) et la zone à faible facteur de transmission (12) est une partie de nuançage (13).
(JA)本発明は、半導体用露光装置等の照明光学系で用いられる瞳フィルタを透過する照明光の光量の減少を防ぎ、半導体露光の効率を高め、光近接効果による補正を施す際の負荷を低減し、マスクパターンピッチによりウェーハ上に結像するパターン寸法が変動することがなく、安定した高解像の光学像が得られる瞳フィルタを提供するもので、光源より発した光を照明光学系を介してマスクに照射し、マスク上のパターンを投影光学系を介して被露光基板上へ投影露光する露光装置の照明光学系で用いられる瞳フィルタ形成用の回折光学素子であって、回折光学素子により形成される瞳フィルタが2つの光透過部(11)を備えた二重極瞳であり、2つの光透過部(11)は前記瞳フィルタの中心から所定の距離に対称の扇状形状をなし、2つの光透過部(11)の間が光低透過率領域(12)からなり、2つの光透過部(11)および光低透過率領域(12)の外側が遮光部(13)であることを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)