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1. (WO2007119821) 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法

Pub. No.:    WO/2007/119821    International Application No.:    PCT/JP2007/058172
Publication Date: Fri Oct 26 01:59:59 CEST 2007 International Filing Date: Sat Apr 14 01:59:59 CEST 2007
IPC: H01L 21/027
G03F 7/20
Applicants: NIKON CORPORATION
株式会社ニコン
KOBAYASHI, Naoyuki
小林 直行
Inventors: KOBAYASHI, Naoyuki
小林 直行
Title: 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
Abstract:
 所定の基準面に検出光を照射し、基準面を介した検出光の受光結果に基づいて基準面の面位置情報を検出する第1動作と、第1マスクの第1面の所定のエリアに検出光を照射し、第1面を介した検出光の受光結果に基づいてエリアの面位置情報を検出する第2動作と、を経て基板が露光される。第2動作は第1面の複数のエリア毎に複数回実行され、第1動作を第2動作の前に第2動作毎に実行する。