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1. (WO2007119699) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/119699    国際出願番号:    PCT/JP2007/057769
国際公開日: 25.10.2007 国際出願日: 06.04.2007
IPC:
G03F 7/032 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
出願人: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630449 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SERI, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAWAGUCHI, Taku [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKANO, Akio [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SERI, Yasuhiro; (JP).
KAWAGUCHI, Taku; (JP).
NAKANO, Akio; (JP)
代理人: HASEGAWA, Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Ginza First Bldg., 10-6 Ginza 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
優先権情報:
2006-114407 18.04.2006 JP
2006-211213 02.08.2006 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME
(FR) Composition de résine photosensible et élément photosensible utilisant celle-ci
(JA) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
要約: front page image
(EN)Disclosed is a photosensitive resin composition containing (A) a base polymer having a repeating unit represented by the general formula (1) below, (B) an acrylic polymer having a photopolymerizable unsaturated group, (C) an inorganic filler, (D) a photopolymerizable monomer and (E) a photoreaction initiator. Also disclosed is a photosensitive element comprising a photosensitive resin composition layer which is formed by using such a photosensitive resin composition. (1) [In the formula (1), R1 represents a divalent organic group which is a diglycidyl ether type epoxy compound residue; R2 represents a divalent organic group which is a dibasic acid residue; and R3 and R4 independently represent a hydrogen atom or a group represented by the following general formula (2): (2) (wherein R5 represents an acid anhydride residue).]
(FR)L'invention concerne une composition de résine photosensible contenant (A) un polymère de base comportant un motif répétitif représenté par la formule générale (1) ci-dessous, (B) un polymère acrylique portant un groupe insaturé photopolymérisable, (C) une charge inorganique, (D) un monomère photopolymérisable et (E) un initiateur de photoréaction. L'invention concerne également un élément photosensible comprenant une couche de composition de résine photosensible formée en utilisant la composition ci-dessus. (1) [Dans la formule (1), R1 représente un groupe organique divalent qui est un résidu de composé époxyde de type éther diglycidylique ; R2 représente un groupe organique divalent qui est un résidu d'acide dibasique ; et R3 et R4 représentent indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe représenté par la formule générale (2) suivante : (2) (dans laquelle R5 représente un résidu d'anhydride acide).]
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)