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国際公開番号: WO/2007/119631 国際出願番号: PCT/JP2007/057342
国際公開日: 25.10.2007 国際出願日: 27.03.2007
IPC:
C09K 3/16 (2006.01) ,C08K 5/50 (2006.01) ,C08L 101/00 (2006.01)
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K
他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3
物質であって,他に分類されないもの
16
帯電防止物質
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
K
無機または非高分子有機物質の添加剤としての使用(ペイント,インキ,ワニス,染料,艶出剤,接着剤C09)
5
有機配合成分の使用
49
りん含有化合物
50
りん―炭素結合のみを有するもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
101
不特定の高分子化合物の組成物
出願人: SHIOMI, Yasuhiro[JP/JP]; JP (UsOnly)
KOEI CHEMICAL COMPANY, LIMITED[JP/JP]; 12-13 Hanaten-nishi 2-chome, Joto-ku Osaka-shi Osaka 5360011, JP (AllExceptUS)
発明者: SHIOMI, Yasuhiro; JP
優先権情報:
2006-09795531.03.2006JP
2006-17622227.06.2006JP
発明の名称: (EN) ANTISTATIC AGENT, AND ANTISTATIC RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME
(FR) AGENT ANTISTATIQUE ET COMPOSITION DE RÉSINE ANTISTATIQUE COMPRENANT CELUI-CI
(JA) 帯電防止剤及びそれを含有してなる帯電防止性樹脂組成物
要約:
(EN) An antistatic agent comprising at least one quaternary phosphonium salt (hereinafter, referred to as 'a phosphonium salt (1)) represented by the formula (1): (R1)3R2P+ A- (1) [wherein R1 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and an aryl group; R2 represents the same group as that for R1 or an aryl group or an aralkyl group when R1 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or R2 represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an aryl group or an aralkyl group when R1 represents an aryl group; and A- represents a bis(perfluoroalkanesulfonyl)imide ion or a perfluoroalkanesulfonate ion] and at least one quaternary phosphonium salt (hereinafter, referred to as 'a phosphonium salt (2)) represented by the formula (2): (R3)3R4P+ B- (2) [wherein R3 and R4 are as defined for R1 and R2, respectively; and B- represents an anion] (provided that both the phosphonium salts (1) and (2) do not represent an identical compound). The antistatic agent can decrease the surface resistance value compared to a conventional one.
(FR) Agent antistatique comprenant au moins un sel de phosphonium quaternaire (ci-après appelé 'sel de phosphonium (1)') représenté par la formule (1) : (R1)3R2P+ A- (1) [dans laquelle R1 représente un groupe alkyle ayant 1 à 4 atomes de carbone ou un groupe aryle; R2 représente le même groupe que pour R1 ou un groupe aryle ou un groupe aralkyle lorsque R1 représente un groupe alkyle ayant 1 à 4 atomes de carbone ou bien R2 représente un groupe alkyle ayant 1 à 16 atomes de carbone, un groupe aryle ou un groupe aralkyle lorsque R1 représente un groupe aryle; et A- représente un ion bis(perfluoroalcanesulfonyl)imide ou un ion perfluoroalcanesulfonate] et au moins un sel de phosphonium quaternaire (ci-après appelé 'sel de phosphonium (2)') représenté par la formule (2) : (R3)3R4P+ B- (2) [dans laquelle R3 et R4 sont tels que définis pour R1 et R2, respectivement; et B- représente un anion](à condition que les deux sels de phosphonium (1) et (2) ne représentent pas un composé identique). L'agent antistatique peut diminuer la valeur de la résistance de surface par rapport à un agent classique.
(JA) not available
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)