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1. (WO2007119501) 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

Pub. No.:    WO/2007/119501    International Application No.:    PCT/JP2007/055969
Publication Date: Fri Oct 26 01:59:59 CEST 2007 International Filing Date: Sat Mar 24 00:59:59 CET 2007
IPC: H01L 21/027
G03F 7/20
Applicants: NIKON CORPORATION
株式会社ニコン
NAGASAKA, Hiroyuki
長坂 博之
Inventors: NAGASAKA, Hiroyuki
長坂 博之
Title: 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
Abstract:
 露光装置(EX)は、第1波長の第1露光光(EL1)を第1露光領域(AR1)に照射し、第1波長とは異なる第2波長の第2露光光(EL2)を第2露光領域(AR2)に照射する光学システム(PL)を備え、第1露光領域(AR1)に照射される第1露光光(EL1)で形成される第1パターン(PA1)の像と、第2露光領域(AR2)に照射される第2露光光(EL2)で形成される第2パターン(PA2)の像とで、基板(P)上の所定領域(S)を多重露光する。