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1. (WO2007119501) 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/119501    国際出願番号:    PCT/JP2007/055969
国際公開日: 25.10.2007 国際出願日: 23.03.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAGASAKA, Hiroyuki; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 104-8453 (JP)
優先権情報:
2006-080343 23.03.2006 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
要約: front page image
(EN)An exposure apparatus (EX) is provided with an optical system (PL) which irradiates a first exposure region (AR1) with first exposure light (EL1) having a first wavelength and irradiates a second exposure region (AR2) with second exposure light (EL2) having a second wavelength different from the first wavelength. Multiple exposure is performed to a prescribed area (S) on a substrate (P) by an image of a first pattern (PA1) formed by the first exposure light (EL1) applied on the first exposure region (AR1) and an image of a second pattern (PA2) formed by second exposure light (EL2) applied on the second exposure region (AR2).
(FR)L'appareil d'exposition (EX) selon l'invention comporte un système optique (PL) qui irradie une première zone d'exposition (AR1) avec une première lumière d'exposition (EL1) d'une première longueur d'onde et irradie une seconde zone d'exposition (AR2) avec une seconde lumière d'exposition (EL2) d'une seconde longueur d'onde différente de la première longueur d'onde. L'exposition multiple est réalisée sur une surface prescrite (S) sur un substrat (P) par une image d'un premier motif (PA1) constitué par la première lumière d'exposition (EL1) appliquée sur la première zone d'exposition (AR1) et une image d'un second motif (PA2) constitué par la seconde lumière d'exposition (EL2) appliquée sur la seconde zone d'exposition (AR2).
(JA) 露光装置(EX)は、第1波長の第1露光光(EL1)を第1露光領域(AR1)に照射し、第1波長とは異なる第2波長の第2露光光(EL2)を第2露光領域(AR2)に照射する光学システム(PL)を備え、第1露光領域(AR1)に照射される第1露光光(EL1)で形成される第1パターン(PA1)の像と、第2露光領域(AR2)に照射される第2露光光(EL2)で形成される第2パターン(PA2)の像とで、基板(P)上の所定領域(S)を多重露光する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)