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1. (WO2007119412) 閉磁路磁心およびその製造方法

Pub. No.:    WO/2007/119412    International Application No.:    PCT/JP2007/055468
Publication Date: Fri Oct 26 01:59:59 CEST 2007 International Filing Date: Tue Mar 20 00:59:59 CET 2007
IPC: H01F 3/04
C22C 38/00
H01F 1/14
H01F 27/25
H01F 41/02
Applicants: HITACHI METALS, LTD.
日立金属株式会社
YOSHIZAWA, Yoshihito
吉沢 克仁
OHTA, Motoki
太田 元基
Inventors: YOSHIZAWA, Yoshihito
吉沢 克仁
OHTA, Motoki
太田 元基
Title: 閉磁路磁心およびその製造方法
Abstract:
 高飽和磁界・高占積率であるナノ結晶合金からなる閉磁路磁心およびその製造方法を提供するものである。  組成がFe100-a-b-cMaSibBc(原子%)で表されるアモルファス合金材料を巻き回して巻磁心とし、この巻磁心の周側面に5MPa以上500MPa以下の圧力を印加しながらナノ結晶化のための熱処理を行ない、飽和磁界が200A/m以上であり、占積率が80%以上の閉磁路磁心を製造する。前記閉磁路磁心は巻磁心であることが好ましい形態である。