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1. (WO2007116834) パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Co基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法、および磁気記録膜形成用Co基焼結合金スパッタリングターゲット
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/116834    国際出願番号:    PCT/JP2007/057223
国際公開日: 18.10.2007 国際出願日: 30.03.2007
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), C22C 1/04 (2006.01), C22C 27/06 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 5-1, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NONAKA, Sohei [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIRAI, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUGIUCHI, Yukiya [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NONAKA, Sohei; (JP).
SHIRAI, Yoshinori; (JP).
SUGIUCHI, Yukiya; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2006-097227 31.03.2006 JP
2006-243688 08.09.2006 JP
2007-078223 26.03.2007 JP
2007-078224 26.03.2007 JP
2007-078248 26.03.2007 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING Co-BASE SINTERED ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMATION OF MAGNETIC RECORDING FILM WHICH IS LESS LIKELY TO GENERATE PARTICLES, AND Co-BASE SINTERED ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMATION OF MAGNETIC RECORDING FILM
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UNE CIBLE DE PULVERISATION EN ALLIAGE FRITTE A BASE DE Co POUR LA FORMATION D'UN FILM D'ENREGISTREMENT MAGNETIQUE PRESENTANT UNE TENDANCE REDUITE A GENERER DES PARTICULES, ET CIBLE DE PULVERISATION EN ALLIAGE FRITTE A BASE DE Co POUR LA FORMATION D'UN FILM D'ENREGISTREMENT MAGNETIQUE
(JA) パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Co基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法、および磁気記録膜形成用Co基焼結合金スパッタリングターゲット
要約: front page image
(EN)A method for manufacturing a Co-base sintered alloy sputtering target for the formation of a magnetic recording film which is less likely to generate particles, characterized by comprising providing, as raw material powders, a Cr-Co alloy powder comprising 50 to 70 atomic% of Cr with the balance of Co, a Pt powder, a nonmagnetic oxide powder, and a Co powder, blending and mixing these raw material powders together so as to give a chemical composition comprising 2 to 15% by mole of a nonmagnetic oxide, 3 to 20% by mole of Cr, and 5 to 30% by mole of Pt with the balance consisting of Co, and sintering the mixture under pressure. A method for manufacturing a Co-base sintered alloy sputtering target for the formation of a magnetic recording film which is less likely to generate particles, comprising providing, as raw material powders, a Pt-Cr binary alloy powder comprising 10 to 90 atomic% of Pt with the balance consisting of Cr, a Pt powder, a nonmagnetic oxide powder, and a Co powder, blending and mixing these raw material powders so as to give a chemical composition comprising 2 to 15% by mole of the nonmagnetic oxide, 3 to 20% by mole of Cr, and 5 to 30% by mole of Pt with the balance consisting of Co, and then sintering the mixture under pressure. A method for manufacturing a Co-base sintered alloy sputtering target for the formation of a magnetic recording film, characterized by having a chemical composition comprising 2 to 15% by mole of a nonmagnetic oxide, 3 to 20% by mole of Cr, and 5 to 30% by mole of Pt with the balance consisting of Co and unavoidable impurities, the number of chromium oxide aggregates having an absolute maximum length of more than 5 &mgr;m in the base being not more than 500/mm2.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une cible de pulvérisation en alliage fritté à base de Co pour la formation d'un film d'enregistrement magnétique présentant une tendance réduite à générer des particules, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à utiliser, en tant que matières premières sous forme de poudres, une poudre d'alliage Cr-Co comprenant de 50 à 70 % atomique de Cr, le reste étant du Co, une poudre de Pt, une poudre d'oxyde non magnétique et une poudre de Co, à mélanger ces matières premières sous forme de poudres afin d'obtenir une composition chimique comprenant de 2 à 15 % en moles d'un oxyde non magnétique, de 3 à 20 % en moles de Cr et de 5 à 30 % en moles de Pt, le reste étant du Co, et à fritter le mélange sous pression. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'une cible de pulvérisation en alliage fritté à base de Co pour la formation d'un film d'enregistrement magnétique présentant une tendance réduite à générer des particules, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à utiliser, en tant que matières premières sous forme de poudres, une poudre d'alliage binaire Pt-Cr comprenant de 10 à 90 % atomique de Pt, le reste étant du Cr, une poudre de Pt, une poudre d'oxyde non magnétique et une poudre de Co, à mélanger ces matières premières sous forme de poudres afin d'obtenir une composition chimique comprenant de 2 à 15 % en moles d'un oxyde non magnétique, de 3 à 20 % en moles de Cr et de 5 à 30 % en moles de Pt, le reste étant du Co, et à fritter le mélange sous pression. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'une cible de pulvérisation en alliage fritté à base de Co pour la formation d'un film d'enregistrement magnétique, caractérisé en ce qu'il présente une composition chimique comprenant de 2 à 15 % en moles d'un oxyde non magnétique, de 3 à 20 % en moles de Cr et de 5 à 30 % en moles de Pt, le reste étant du Co et d'inévitables impuretés, le nombre d'agrégats d'oxyde de chrome présentant une longueur absolue maximale supérieure à 5 µm dans la base et lesdits agrégats étant présents en une teneur inférieure ou égale à 500/mm2.
(JA) 原料粉末としてCr:50~70原子%を含有し、残部がCoからなるCr-Co合金粉末、Pt粉末、非磁性酸化物粉末およびCo粉末を用意し、これら原料粉末を非磁性酸化物:2~15モル%、Cr:3~20モル%、Pt:5~30モル%を含有し、残部:Coからなる成分組成となるように配合し混合したのち、加圧焼結することを特徴とする、パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Co基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法;原料粉末としてPt:10~90原子%を含有し、残部がCrからなるPt-Cr二元系合金粉末、Pt粉末、非磁性酸化物粉末、およびCo粉末を用意し、これら原料粉末を非磁性酸化物:2~15モル%、Cr:3~20モル%、Pt:5~30モル%を含有し、残部:Coからなる成分組成となるように配合し混合したのち加圧焼結する、パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Co基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法;ならびに非磁性酸化物:2~15モル%、Cr:3~20モル%、Pt:5~30モル%を含有し、残部:Coおよび不可避不純物からなる成分組成を有し、素地中に絶対最大長5μmを超えるクロム酸化物凝集体が500個/mm以下であることを特徴とする磁気記録膜形成用Co基焼結合金スパッタリングターゲット。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)