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1. (WO2007116770) 化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法、ならびに化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2007/116770 国際出願番号: PCT/JP2007/056501
国際公開日: 18.10.2007 国際出願日: 27.03.2007
IPC:
H01L 21/304 (2006.01) ,B24B 37/04 (2012.01) ,C09K 3/14 (2006.01)
出願人: TAKEMURA, Akihiro[JP/JP]; JP (UsOnly)
SHIDA, Hirotaka[JP/JP]; JP (UsOnly)
IKEDA, Masatoshi[JP/JP]; JP (UsOnly)
JSR CORPORATION[JP/JP]; 6-10, Tsukiji 5-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048410, JP (AllExceptUS)
発明者: TAKEMURA, Akihiro; JP
SHIDA, Hirotaka; JP
IKEDA, Masatoshi; JP
代理人: OFUCHI, Michie; 2nd Floor, Ogikubo TM Bldg. 26-13, Ogikubo 5-chome Suginami-ku, Tokyo 1670051, JP
優先権情報:
2006-10220303.04.2006JP
発明の名称: (EN) AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD, AND KIT FOR PREPARING AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING
(FR) DISPERSION AQUEUSE POUR POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE, PROCÉDÉ DE POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE ET KIT DE PRÉPARATION DE LA DISPERSION AQUEUSE POUR POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE
(JA) 化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法、ならびに化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット
要約: front page image
(EN) Disclosed is an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, which contains abrasive grains (A), an organic acid (B), a water-soluble polymer (C), an oxidizing agent (D) and water (E). The weight average molecular weight of the water-soluble polymer (C) is 50,000-5,000,000.
(FR) La présente invention concerne une dispersion aqueuse pour polissage chimico-mécanique, qui contient des grains abrasifs (A), un acide organique (B), un polymère soluble dans l'eau (C), un agent oxydant (D) et de l'eau (E). Le poids moléculaire moyen en poids du polymère soluble dans l'eau (C) est de 50000-5000000.
(JA)  化学機械研磨用水系分散体は、(A)砥粒、(B)有機酸、(C)水溶性高分子、(D)酸化剤、および(E)水を含み、前記(C)水溶性高分子の重量平均分子量が50,000~5,000,000である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)