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1. (WO2007116715) 固体粒子高接触体、固体粒子高接触体基材、及びそれらの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2007/116715 国際出願番号: PCT/JP2007/056319
国際公開日: 18.10.2007 国際出願日: 27.03.2007
予備審査請求日: 30.01.2008
IPC:
B01J 35/10 (2006.01) ,B01D 53/94 (2006.01) ,B01J 23/66 (2006.01) ,B01J 35/02 (2006.01) ,B01J 37/02 (2006.01) ,B01J 37/03 (2006.01) ,B01J 37/08 (2006.01) ,B01J 37/16 (2006.01) ,F01N 3/02 (2006.01)
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
35
形態または物理的性質に特徴のある触媒一般
02
固体
10
表面特性または多孔性に特徴のあるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
53
ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
34
廃ガスの化学的または生物学的浄化
92
エンジン排気ガスに適用されるもの
94
触媒による方法によるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
23
グループ21/00に分類されない,金属または金属酸化物または水酸化物からなる触媒
38
貴金属に関するもの
54
グループ23/02から23/36までに分類される金属,酸化物または水酸化物と結合したもの
66
銀または金
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
35
形態または物理的性質に特徴のある触媒一般
02
固体
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
37
触媒調製のためのプロセス一般;触媒の活性化のためのプロセス一般
02
含浸,被覆または沈澱
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
37
触媒調製のためのプロセス一般;触媒の活性化のためのプロセス一般
02
含浸,被覆または沈澱
03
沈澱;共沈
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
37
触媒調製のためのプロセス一般;触媒の活性化のためのプロセス一般
08
熱処理
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
37
触媒調製のためのプロセス一般;触媒の活性化のためのプロセス一般
16
還元
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
01
機械または機関一般;機関設備一般;蒸気機関
N
機械または機関のためのガス流消音器または排気装置一般;内燃機関用ガス流消音器または排気装置
3
排気の清浄,無害化または他の処理をする手段をもつ排気もしくは消音装置
02
排気を冷却するためのもの,または排気の固体成分を除去するためのもの
出願人: KAYAMA, Tomoyuki[JP/JP]; JP (UsOnly)
BANNO, Kouzi[JP/JP]; JP (UsOnly)
KABUSHIKI KAISHA TOYOTA CHUO KENKYUSHO[JP/JP]; 41-1, Aza Yokomichi, Oaza Nagakute, Nagakute-cho, Aichi-gun Aichi 4801192, JP (AllExceptUS)
発明者: KAYAMA, Tomoyuki; JP
BANNO, Kouzi; JP
代理人: NAGAHAMA, Noriaki; Nagahama International Patent Firm Muraki Bldg. 8th Floor 2-10-10, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1040028, JP
優先権情報:
2006-10108631.03.2006JP
発明の名称: (EN) HIGH-CONTACT STRUCTURE FOR SOLID-PARTICLE, HIGH-CONTACT STRUCTURE BASE FOR SOLID PARTICLE, AND PROCESSES FOR PRODUCING THESE
(FR) STRUCTURE A CONTACT FORT POUR PARTICULE SOLIDE, BASE DE STRUCTURE A CONTACT FORT POUR PARTICULE SOLIDE ET LEURS PROCEDES DE PRODUCTION
(JA) 固体粒子高接触体、固体粒子高接触体基材、及びそれらの製造方法
要約:
(EN) A high-contact structure for solid particles which comprises aggregates formed by the primary aggregation of primary particles made of a metal and/or metal oxide and the secondary aggregation of the primary-aggregation product, wherein the primary particles have an average particle diameter of 1-100 nm. In the pores formed by the primary-aggregation product, the volume of pores having a pore diameter in the range of [(average pore diameter of the pores)±50%] accounts for 60% or more of the total volume of the pores. This high-contact structure for solid particles can efficiently trap a wide range of solid particles including carbon-containing ingredients such as soot and PMs having a small particle diameter. It is extremely useful as an oxidation catalyst, etc.
(FR) La présente invention concerne une structure à contact fort pour particules solides qui comprend des agrégats formés par l'agrégation primaire de particules primaires faites d'un métal et/ou d'un oxyde de métal et l'agrégation secondaire du produit provenant de l'agrégation primaire, les particules primaires ayant un diamètre moyen de particules allant de 1 à 100 nm. Dans les pores formés par le produit de l'agrégation primaire, le volume de pores ayant un diamètre de pore dans la gamme du [(diamètre moyen depore des pores) ± 50 %] représente 60 % ou plus de volume total des pores. Cette structure à contact fort pour particules solides peutpiéger de manière efficace une large gamme de particules solides comprenant des ingrédients contenant du carbone tels que la suie et des PM ayant un petit diamètre de particules. Elle est extrêmement utile en tant que catalyseur d'oxydation, etc.
(JA) not available
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)